| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| ·前言 | 第9页 |
| ·SOI材料简介 | 第9-10页 |
| ·SOI材料的发展应用 | 第10-12页 |
| ·光子晶体简介 | 第12-13页 |
| ·光子晶体的结构特性 | 第13-15页 |
| ·光子晶体制备方法 | 第15-16页 |
| ·光子晶体性质的应用 | 第16-19页 |
| ·本论文研究的主要内容 | 第19-22页 |
| 第2章 光子晶体计算理论 | 第22-33页 |
| ·平面波展开法 | 第22-25页 |
| ·光子晶体中的基本方程 | 第22-23页 |
| ·平面波展开 | 第23-24页 |
| ·介电常数展开 | 第24-25页 |
| ·平面波展开法小结 | 第25页 |
| ·有限差分时域法 | 第25-31页 |
| ·Yee原胞 | 第25-27页 |
| ·二维FDTD差分公式 | 第27-29页 |
| ·三维FDTD差分公式 | 第29-31页 |
| ·FDTD注意的几个问题 | 第31页 |
| ·其他计算方法 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 平板二维光子晶体制备研究 | 第33-40页 |
| ·平板二维光子晶体 | 第33-35页 |
| ·SOI基平板二维光子晶体制备方法 | 第35-39页 |
| ·光刻曝光系统 | 第35-37页 |
| ·电子束曝光系统 | 第37页 |
| ·感应耦合等离子体刻蚀 | 第37-38页 |
| ·离子注入 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 SOI基SiO_x柱平板光子晶体带隙研究 | 第40-58页 |
| ·SOI基三角晶格空气柱平板光子晶体 | 第40-47页 |
| ·空气柱半径对SOI基平板光子晶体的影响 | 第40-45页 |
| ·晶格常数对SOI基空气柱平板光子晶体的影响 | 第45-47页 |
| ·SOI基三角晶格SiO_2柱平板光子晶体 | 第47-54页 |
| ·SiO_2柱半径对SOI基平板光子晶体的影响 | 第48-52页 |
| ·晶格常数对SOI基SiO_2柱平板光子晶体的影响 | 第52-54页 |
| ·折射率差对SOI基三角晶格SiO_x柱平板光子晶体的影响 | 第54-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第5章 SOI基三角晶格SiO_2柱平板光子晶体波导 | 第58-62页 |
| ·SOI基三角晶格SiO_2柱平板光子晶体直波导 | 第58-59页 |
| ·SOI基三角晶格SiO_2柱平板光子晶体波导结构优化 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第6章 结论与展望 | 第62-64页 |
| ·主要结论 | 第62页 |
| ·前景展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文及科研情况 | 第70页 |
