| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-15页 |
| ·综述 | 第9-10页 |
| ·ZAO薄膜的结构特性 | 第10-12页 |
| ·ZAO薄膜的应用研究进展 | 第12-14页 |
| ·太阳能电池 | 第12页 |
| ·节能视窗和热镜 | 第12-13页 |
| ·低辐射玻璃 | 第13页 |
| ·平板显示器 | 第13页 |
| ·传感器 | 第13页 |
| ·抗静电涂料 | 第13页 |
| ·其他应用 | 第13-14页 |
| ·本课题的研究内容及其意义 | 第14-15页 |
| 第2章 射频反应磁控溅射法制备ZAO薄膜及其表征 | 第15-32页 |
| ·ZAO薄膜的制备方法综述 | 第15-21页 |
| ·喷雾热解法 | 第15-17页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第17-18页 |
| ·金属有机化学气相沉积 | 第18-19页 |
| ·分子束外延法 | 第19-20页 |
| ·溶胶—凝胶法(Sol-gel) | 第20-21页 |
| ·磁控溅射技术沉积ZAO薄膜的基本原理和特点 | 第21-23页 |
| ·磁控溅射镀膜原理 | 第21-22页 |
| ·磁控溅射镀膜特点 | 第22-23页 |
| ·ZAO薄膜的制备 | 第23-24页 |
| ·不同薄膜的表面形貌 | 第24-26页 |
| ·不同ZAO薄膜的晶体结构 | 第26-31页 |
| ·XRD测量原理 | 第26-27页 |
| ·不同ZAO薄膜晶体结构的XRD分析 | 第27-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 射频反应磁控溅射生长ZAO薄膜电学性质 | 第32-40页 |
| ·工作气体(Ar)与反应气体(O_2)流量比对ZAO薄膜电学性质的影响 | 第32-37页 |
| ·I-V特性研究 | 第32-33页 |
| ·薄膜表面电阻分析 | 第33-34页 |
| ·ZAO薄膜的阻抗谱分析 | 第34-37页 |
| ·不同衬底温度和溅射时间对ZAO薄膜电学性质的影响 | 第37-39页 |
| ·不同衬底温度下生长ZAO薄膜I-V特性曲线 | 第37-38页 |
| ·不同溅射时间下生长ZAO薄膜的I-V特性曲线 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 RF反应磁控溅射生长ZAO薄膜的光学性质 | 第40-46页 |
| ·不同Ar/O_2比生长ZAO薄膜的光吸收特性 | 第40-42页 |
| ·不同衬底温度下生长ZAO薄膜的光吸收特性 | 第42-44页 |
| ·RF反应磁控溅射ZAO薄膜的PL谱 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第5章 总结 | 第46-48页 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-52页 |
| 致谢 | 第52页 |