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氧化铟纳米材料的制备及其发光性能和场发射性的研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第一章 绪论第10-23页
   ·氧化铟材料的简介第10-11页
   ·氧化铟(In_2O_3)纳米材料的发光性能研究现状第11-18页
   ·氧化铟(In_2O_3)纳米材料的场发射性能研究现状第18-21页
   ·本课题的研究意义和研究内容第21-23页
     ·本课题的研究意义第21页
     ·本课题的研究内容第21-23页
第二章 样品制备及其表征第23-40页
   ·In_2O_3纳米材料的制备方法第23-24页
     ·化学气相沉积法第23页
     ·溶胶凝胶法第23-24页
     ·溅射法第24页
     ·模板法第24页
     ·水热法第24页
   ·实验样品制备第24-25页
     ·实验材料和设备第24-25页
     ·实验过程第25页
   ·In_2O_3纳米颗粒的表征分析第25-30页
     ·In_2O_3颗粒 SEM 形貌分析第25-27页
     ·In_2O_3颗粒 XRD 图谱分析第27-28页
     ·In_2O_3颗粒 EDS 分析第28-29页
     ·In_2O_3颗粒 XPS 分析第29-30页
   ·In_2O_3纳米线的形貌和结构表征第30-34页
     ·In_2O_3纳米线的 SEM 形貌分析第30-32页
     ·In_2O_3纳米线的 XRD 分析第32-33页
     ·In_2O_3纳米线的 EDS 分析第33页
     ·In_2O_3纳米线的 TEM 分析第33-34页
   ·Fe 掺杂 In_2O_3纳米线的形貌和结构表征第34-39页
     ·Fe 掺杂 In_2O_3纳米线的 SEM 形貌分析第34-35页
     ·Fe 掺杂 In_2O_3纳米线的 XRD 分析第35-36页
     ·Fe 掺杂 In_2O_3纳米线的 XPS 分析第36-37页
     ·Fe 掺杂 In_2O_3纳米线的 XAFS 分析第37-39页
   ·本章小结第39-40页
第三章 氧化铟(In_2O_3)纳米结构的光致发光性能研究第40-47页
   ·引言第40页
   ·纳米材料的几种发光模型第40-41页
     ·量子限制效应发光模型第40-41页
     ·与氧有关缺陷发光模型第41页
     ·量子限制效应—发光中心发光模型第41页
   ·氧化铟纳米材料发光特性的实验研究第41-45页
     ·In_2O_3纳米颗粒的发光特性第41-43页
     ·In_2O_3纳米线的发光特性第43-44页
     ·Fe 掺杂 In_2O_3纳米线的发光特性第44-45页
     ·发光机理研究第45页
   ·本章小结第45-47页
第四章 氧化铟纳米结构的场发射性能研究第47-56页
   ·场发射原理第47-49页
     ·金属场发射原理第47-48页
     ·场发射性能判断依据第48-49页
   ·场发射测试设备简介第49-50页
   ·氧化铟(In_2O_3)纳米材料的场发射性能研究第50-55页
     ·不同形貌氧化铟(In_2O_3)纳米结构的场发射性能研究第50-51页
     ·不同直径氧化铟(In_2O_3)纳米线的场发射性能研究第51-53页
     ·Fe 掺杂氧化铟(In_2O_3)纳米线的场发射性能研究第53-55页
   ·稳定性测试第55页
   ·本章小结第55-56页
第五章 总结和展望第56-58页
   ·总结第56页
   ·展望第56-58页
参考文献第58-63页
发表论文和科研情况说明第63-64页
致谢第64-65页

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