| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·论文选题背景 | 第10页 |
| ·硬盘结构和磁盘盘片的平坦化需求 | 第10-12页 |
| ·硬盘的工作原理 | 第11页 |
| ·磁盘盘片表面质量的平坦化需求 | 第11-12页 |
| ·化学机械抛光及研究现状 | 第12-15页 |
| ·化学机械抛光基本原理及特点 | 第13-14页 |
| ·化学机械抛光技术的三要素 | 第14-15页 |
| ·化学机械抛光的研究现状 | 第15页 |
| ·磁盘盘片表面质量要求及现状 | 第15-18页 |
| ·磁盘盘片表面质量 | 第16页 |
| ·磁盘盘片表面质量要求 | 第16-17页 |
| ·表面粗糙度的研究现状 | 第17页 |
| ·表面容纳系数及研究现状 | 第17-18页 |
| ·主要研究内容 | 第18-19页 |
| ·研究意义 | 第19-21页 |
| 第2章 化学机械抛光去除机理及模型 | 第21-44页 |
| ·化学机械抛光去除机理 | 第21-22页 |
| ·CMP的机械作用机理模型分类 | 第22页 |
| ·材料去除机理典型模型 | 第22-31页 |
| ·唯象学模型 | 第22-24页 |
| ·基于流体动力学理论的非接触模型 | 第24-28页 |
| ·基于接触力学理论的全接触模型 | 第28-31页 |
| ·基于接触力学和流体力学理论的半接触模型 | 第31页 |
| ·CMP机械作用机理模型的研究现状 | 第31-33页 |
| ·基于机械的接触理论的CMP去除机理的研究 | 第33-41页 |
| ·机械接触理论 | 第33-35页 |
| ·磁盘盘片与抛光垫之间的接触面积和压力 | 第35-36页 |
| ·单个颗粒的体积去除速率 | 第36-38页 |
| ·与磁盘盘片实际接触的抛光垫表面磨粒浓度 | 第38-39页 |
| ·总的去除速率的计算 | 第39-41页 |
| ·模拟结果和结论 | 第41-43页 |
| ·模拟结果 | 第41-43页 |
| ·结论 | 第43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第3章 最小二乘有限差分法及应用 | 第44-54页 |
| ·最小二乘有限差分法 | 第44-48页 |
| ·一维泰勒级数 | 第44-45页 |
| ·二维泰勒级数 | 第45-48页 |
| ·考虑气体稀薄效应的雷诺方程 | 第48-50页 |
| ·雷诺方程 | 第48-49页 |
| ·考虑气体稀薄效应的雷诺方程 | 第49-50页 |
| ·运用最小二乘法求解雷诺方程 | 第50-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第4章 盘片表面粗糙度对磁头/磁盘系统静态特性的影响 | 第54-68页 |
| ·基本方程 | 第54-55页 |
| ·数值求解 | 第55页 |
| ·盘片表面粗糙度沿滑块长度方向呈正弦分布的影响 | 第55-58页 |
| ·盘片表面粗糙度幅值的影响 | 第56-57页 |
| ·盘片表面粗糙度波长的影响 | 第57-58页 |
| ·盘片表面粗糙度沿滑块宽度方向呈正弦分布的影响 | 第58-60页 |
| ·盘片表面粗糙度幅值的影响 | 第58-59页 |
| ·盘片表面粗糙度波长的影响 | 第59-60页 |
| ·盘片表面粗糙度模式影响 | 第60-66页 |
| ·各向同性表面粗糙度结构的影响 | 第61-63页 |
| ·横向表面粗糙度结构的影响 | 第63-64页 |
| ·纵向表面粗糙度结构的影响 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第5章 容纳系数对磁头/磁盘系统静态特性的影响 | 第68-75页 |
| ·容纳系数 | 第68-69页 |
| ·自由分子区域的MGL方程及剪力方程 | 第69-71页 |
| ·数值求解 | 第71页 |
| ·数值模拟结果与讨论 | 第71-73页 |
| ·本章小结 | 第73-75页 |
| 第6章 总结和展望 | 第75-77页 |
| ·全文总结 | 第75-76页 |
| ·全文展望 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-82页 |
| 后记 | 第82-83页 |
| 攻读硕士学位期间论文发表及科研情况 | 第83页 |