超声强化液固传质动力学模型与硅中阶梯光栅湿法刻蚀技术研究

摘要	第1-7页
Abstract	第7-9页
目录	第9-11页
第1章 绪论	第11-31页
·课题研究背景及意义	第11-21页
·超声强化传质机理与硅中阶梯光栅的研究现状	第21-29页
·论文的主要研究内容和结构安排	第29-31页
第2章 超声强化液固传质基本方程与边界条件	第31-67页
·引言	第31页
·粘性流体的声波方程	第31-39页
·层流边界层微分方程	第39-47页
·传质微分方程	第47-57页
·对流传质	第57-60页
·收缩未反应芯模型	第60-64页
·建立动力学模型的思路及框架	第64-65页
·本章小结	第65-67页
第3章 超声强化液固传质动力学模型	第67-101页
·引言	第67-68页
·理论模型	第68-82页
·结果与讨论	第82-99页
·本章小结	第99-101页
第4章 硅中阶梯光栅湿法刻蚀技术	第101-123页
·引言	第101页
·单晶硅基底制备	第101-106页
·氧化层掩模制备	第106-115页
·硅光栅闪耀面粗糙度的抑制方法	第115-122页
·本章小结	第122-123页
第5章 总结与展望	第123-127页
·论文工作总结	第123-125页
·展望	第125-127页
参考文献	第127-143页
在学期间学术成果情况	第143-145页
指导教师及作者简介	第145-147页
致谢	第147页