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Zn-Ti-Si三元系450℃等温截面及X(Ni,Ti)3Si/Zn周期层片结构研究

摘要第1-5页
Abstract第5-10页
第1章 引言第10-11页
第2章 文献综述第11-28页
   ·周期层片型结构的研究背景第11-18页
   ·周期层片型结构形成机理的研究历程第18-21页
   ·扩散偶技术及其研究现状第21-23页
     ·扩散偶技术的发展及应用第22-23页
     ·扩散偶的制备方法第23页
   ·相图测定以及Zn-Ti-Si 三元系的研究现状第23-26页
   ·本课题的研究目标及意义第26-28页
     ·研究目标第26-27页
     ·研究意义第27-28页
第3章 实验原理与方法第28-35页
   ·相图实验测试原理第28-30页
     ·实验条件第28-30页
     ·合金样品的熔炼及热处理第30页
   ·扩散偶实验第30-34页
     ·扩散偶方法的选择第30-31页
     ·扩散偶的制备第31-34页
   ·金相样品的观察与分析第34-35页
第4章 Zn-Ti-Si 三元系450℃等温截面的研究第35-47页
 本章小结第46-47页
第5章 周期层片型结构的研究第47-58页
   ·引言第47页
   ·扩散偶实验结果与分析第47-52页
     ·Zn/Ti 液固扩散偶第47-49页
     ·Zn/Ti_3Si固态扩散偶第49-50页
     ·Zn/Ti_3Si液固扩散偶第50-52页
   ·Zn/Ni_3Si周期层片型结构形核组织形貌分析第52-57页
     ·Zn/Ni_3Si液固扩散偶结果及分析第52-56页
     ·Zn/Ni_3Si固固扩散偶结果及分析第56-57页
   ·本章小结第57-58页
第6章 总结与展望第58-60页
   ·论文总结第58-59页
   ·工作展望第59-60页
参考文献第60-64页
致谢第64-65页
附录A 在校期间发表的学术论文第65页

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