壳层掺杂硅纳米线热导率的分子动力学模拟
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-15页 |
| ·热电材料 | 第8-9页 |
| ·热电优值及其提高方法 | 第9-10页 |
| ·纳米线热导率的研究现状及进展 | 第10-13页 |
| ·本文研究的目的以及内容 | 第13-15页 |
| 第2章 硅纳米线热导率的分子动力学模拟方法 | 第15-28页 |
| ·分子动力学方法简介及分类 | 第15-20页 |
| ·分子动力学简介 | 第15-16页 |
| ·平衡态分子动力学模拟 | 第16-17页 |
| ·非平衡态分子动力学模拟 | 第17-20页 |
| ·模拟硅纳米线热导率的分子动力学方案设计 | 第20-27页 |
| ·硅纳米线的原始结构和模型结构 | 第20-21页 |
| ·势函数的选择 | 第21-23页 |
| ·温度的定义与修正 | 第23-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 壳层掺杂硅纳米线热导率的模拟结果及其解释 | 第28-40页 |
| ·分子动力学模拟结果 | 第28-34页 |
| ·壳层掺杂 Si NWs 热导率的浓度效应 | 第28-31页 |
| ·壳层掺杂 Si NWs 热导率的尺寸效应 | 第31-33页 |
| ·壳层掺杂 Si NWs 热导率的温度效应 | 第33-34页 |
| ·壳层掺杂硅纳米线热导率的理论解释 | 第34-38页 |
| ·振动模式参与率分析 | 第34-37页 |
| ·局域化模式的空间分布 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第4章 总结和展望 | 第40-42页 |
| ·论文总结 | 第40-41页 |
| ·工作展望 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文及研究成果 | 第47页 |