| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| ·研究背景与意义 | 第7-8页 |
| ·SiO_2/TiO_2薄膜研究进展 | 第8页 |
| ·TiO_2晶格结构 | 第8-9页 |
| ·TiO_2的光催化原理 | 第9-10页 |
| ·减反射薄膜的原理 | 第10-11页 |
| ·SiO_2/TiO_2薄膜的制备方法 | 第11页 |
| ·本论文研究内容 | 第11-13页 |
| 第二章 实验设备与检测设备 | 第13-16页 |
| ·实验仪器设备 | 第13-15页 |
| ·检测仪器 | 第15-16页 |
| 第三章 磁控溅射法制备纳米 SiO_2/TiO_2复合薄膜 | 第16-31页 |
| ·磁控溅射法概述 | 第16-18页 |
| ·磁控溅射靶材的制备和分析 | 第18-26页 |
| ·磁控溅射基片的清洗 | 第26页 |
| ·SiO_2/TiO_2复合薄膜的制备 | 第26-31页 |
| 第四章 SiO_2/TiO_2复合薄膜的表征和性能研究 | 第31-40页 |
| ·SiO_2/TiO_2复合薄膜 AFM 分析 | 第31-32页 |
| ·退火温度对薄膜透光率的影响 | 第32-34页 |
| ·TiO_2含量对薄膜透光率的影响 | 第34-36页 |
| ·SiO_2/TiO_2薄膜亲水性能测试 | 第36-37页 |
| ·SiO_2/TiO_2薄膜光催化性能分析 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第五章 电子束蒸发法制备纳米 SiO_2/TiO_2薄膜及其性能表征 | 第40-48页 |
| ·电子束蒸发原理及镀膜设备 | 第40-41页 |
| ·SiO_2/TiO_2多层薄膜的光学设计 | 第41-43页 |
| ·SiO_2/TiO_2多层薄膜样品的制备 | 第43-44页 |
| ·薄膜性能表征 | 第44-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第六章 总结与展望 | 第48-50页 |
| ·总结 | 第48-49页 |
| ·展望 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |
| 硕士在读期间发表的论文 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |
