| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的研究背景及意义 | 第10-11页 |
| ·TCO 薄膜材料的性能 | 第11-14页 |
| ·TCO 薄膜的透光性能 | 第11-12页 |
| ·TCO 薄膜的导电性能 | 第12-13页 |
| ·透光性与导电性的关系 | 第13-14页 |
| ·p 型 CuAlO_2薄膜概述 | 第14-17页 |
| ·p 型 CuAlO_2薄膜的晶体结构 | 第14-15页 |
| ·p 型 CuAlO_2薄膜研究的发展现状 | 第15-17页 |
| ·掺杂 CuAlO_2薄膜研究进展 | 第17-18页 |
| ·CuAlO_2薄膜的应用 | 第18-20页 |
| 第二章 p 型 CuAlO_2 薄膜的制备工艺及其性能表征仪器介绍 | 第20-28页 |
| ·射频磁控溅射制备 CuAlO_2薄膜的工艺 | 第20-23页 |
| ·射频磁控溅射仪原理 | 第20-22页 |
| ·射频磁控溅射仪介绍 | 第22-23页 |
| ·溶胶凝胶法（sol-gel）制备 CuAlO_2薄膜的工艺 | 第23-24页 |
| ·X 射线衍射仪（XRD） | 第24-25页 |
| ·傅里叶变换红外光谱仪 | 第25-26页 |
| ·四探针测量仪 | 第26-27页 |
| ·原子力显微镜 | 第27-28页 |
| 第三章 CuAlO_2薄膜的制备流程与性能研究 | 第28-43页 |
| ·RF 磁控溅射法制备 CuAlO_2薄膜 | 第28-34页 |
| ·RF 磁控溅射制备 CuAlO_2流程 | 第28-29页 |
| ·CuAlO_2薄膜晶体结构分析 | 第29-30页 |
| ·CuAlO_2薄膜中红外波段光学特性分析 | 第30-31页 |
| ·CuAlO_2薄膜电学性能分析 | 第31-32页 |
| ·CuAlO_2薄膜表面形貌分析 | 第32-34页 |
| ·溶胶凝胶法制备 CuAlO_2薄膜 | 第34-40页 |
| ·Sol-gel 法制备 CuAlO_2薄膜制备流程 | 第34-35页 |
| ·CuAlO_2薄膜晶体结构分析 | 第35-36页 |
| ·CuAlO_2薄膜中红外波段光学特性分析 | 第36-37页 |
| ·CuAlO_2薄膜电学性能分析 | 第37-38页 |
| ·CuAlO_2薄膜表面形貌分析 | 第38-40页 |
| ·小结 | 第40-43页 |
| 第四章 掺杂对 CuAlO_2薄膜性能影响的研究 | 第43-61页 |
| ·制备掺杂 CuAlO_2薄膜流程 | 第43-44页 |
| ·Ca~(2+)、Fe~(3+)、Ti~(4+)掺杂对 CuAlO_2薄膜晶体结构的影响 | 第44-47页 |
| ·Ca~(2+)、Fe~(3+)、Ti~(4+)掺杂对 CuAlO_2薄膜光学性能的影响 | 第47-50页 |
| ·Ca~(2+)、Fe~(3+)、Ti~(4+)掺杂对 CuAlO_2薄膜电学性能的影响 | 第50-52页 |
| ·Ca~(2+)、Fe~(3+)、Ti~(4+)掺杂对 CuAlO_2薄膜表面形貌的影响 | 第52-58页 |
| ·小结 | 第58-61页 |
| 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 科研成果 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
