VO2制作工艺与相变特性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 概论 | 第9-14页 |
| ·课题研究背景 | 第9页 |
| ·国内外研究状况 | 第9-11页 |
| ·VO_2材料的几种制备方法 | 第11-13页 |
| ·本课题研究内容及意义 | 第13-14页 |
| 2 二氧化钒的相变理论及应用 | 第14-28页 |
| ·钒氧体系 | 第14-17页 |
| ·VO_2的多种相态 | 第17页 |
| ·VO_2相变晶体学理论 | 第17-19页 |
| ·VO_2的相变能带理论 | 第19-20页 |
| ·VO_2的相变热力学和相变动力学理论 | 第20-22页 |
| ·M/R 相 VO_2的应用 | 第22-24页 |
| ·混合相 VOx 和 B 相 VO_2的应用 | 第24-25页 |
| ·传感器理论 | 第25-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 3 氧化钒薄膜制备工艺研究 | 第28-39页 |
| ·膜系的设计 | 第28页 |
| ·硅片上氮化硅的制备 | 第28-31页 |
| ·磁控溅射及其原理 | 第31-33页 |
| ·清洗、镀膜、退火仪器介绍 | 第33-35页 |
| ·基片的预备和清洗 | 第35页 |
| ·镀膜参数的设置 | 第35-36页 |
| ·磁控溅射过程 | 第36-37页 |
| ·MSP-3200E 型磁控溅射镀膜机简介 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 4 二氧化钒薄膜特性测试与分析 | 第39-57页 |
| ·电阻测量仪器及其原理 | 第39-40页 |
| ·电阻测量结果对比与分析 | 第40-44页 |
| ·VO_2薄膜的 R-T 数据处理 | 第44-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 5 水热法制备 VO_2纳米线 | 第57-67页 |
| ·水热法的定义 | 第57页 |
| ·实验室用仪器及试剂 | 第57-59页 |
| ·实验步骤和原理 | 第59-61页 |
| ·SEM 测试结果与分析 | 第61-63页 |
| ·纳米线电阻特性测量与总结 | 第63-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 6 全文总结 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
