石墨靶电流对磁控溅射类石墨镀层结构与性能的影响
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-22页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·耐磨减磨镀层的发展 | 第8-10页 |
| ·耐磨镀层的发展与应用 | 第8-9页 |
| ·减磨镀层的发展与应用 | 第9-10页 |
| ·碳镀层的发展和应用 | 第10-12页 |
| ·类金刚石(DLC)镀层 | 第10-12页 |
| ·类石墨(GLC)镀层 | 第12页 |
| ·磁控溅射技术的发展及特点 | 第12-17页 |
| ·溅射技术的发展 | 第12-14页 |
| ·平衡磁控溅射 | 第14-15页 |
| ·非平衡磁控溅射 | 第15-17页 |
| ·影响类石墨镀层性能的主要工艺参数 | 第17-19页 |
| ·工件偏压 | 第17页 |
| ·制备气氛 | 第17-18页 |
| ·靶电流 | 第18-19页 |
| ·课题的研究目的、意义及内容 | 第19-22页 |
| 2 实验设备和实验方法 | 第22-30页 |
| ·实验材料及镀膜前预处理 | 第22-23页 |
| ·实验基材 | 第22-23页 |
| ·镀膜前预处理 | 第23页 |
| ·类石墨镀层的制备 | 第23-24页 |
| ·镀膜设备 | 第23-24页 |
| ·镀膜过程 | 第24页 |
| ·类石墨镀层的组织结构分析与性能检测 | 第24-30页 |
| ·镀层的组织结构分析 | 第24-25页 |
| ·镀层的性能检测 | 第25-30页 |
| 3 石墨靶电流对类石墨镀层组织结构的影响 | 第30-45页 |
| ·石墨靶电流对镀层表面形貌的影响 | 第30-32页 |
| ·表面扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第30-31页 |
| ·原子力显微镜(AFM)分析 | 第31-32页 |
| ·石墨靶电流对镀层生长方向组织结构的影响 | 第32-37页 |
| ·截面扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第32-34页 |
| ·透射电子显微镜(TEM)分析 | 第34-37页 |
| ·石墨靶电流对镀层成分及相组成的影响 | 第37-39页 |
| ·X-射线衍射(XRD)分析 | 第37-38页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS)分析 | 第38-39页 |
| ·石墨靶电流对镀层碳键结构的影响 | 第39-45页 |
| ·碳键结构的X-射线光电子能谱(XPS)分析 | 第39-41页 |
| ·拉曼光谱(Raman)分析 | 第41-43页 |
| ·镀层导电性测试 | 第43-45页 |
| 4 石墨靶电流对类石墨镀层性能的影响 | 第45-56页 |
| ·石墨靶电流对镀层厚度的影响 | 第45-46页 |
| ·石墨靶电流对镀层显微硬度的影响 | 第46-48页 |
| ·石墨靶电流对镀层结合情况的影响 | 第48-51页 |
| ·洛氏压痕法 | 第48页 |
| ·划痕法 | 第48-51页 |
| ·石墨靶电流对镀层摩擦磨损性能的影响 | 第51-56页 |
| ·石墨靶电流对镀层摩擦系数的影响 | 第51-52页 |
| ·石墨靶电流对镀层比磨损率的影响 | 第52-56页 |
| 5 讨论 | 第56-59页 |
| 6 结论 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第66页 |
