| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第11-12页 |
| ·真空蒸镀 | 第11-12页 |
| ·离子镀膜 | 第12页 |
| ·溅射镀膜 | 第12页 |
| ·纳米复合膜 | 第12-14页 |
| ·纳米复合膜的概念和分类 | 第12页 |
| ·纳米复合膜的研究现状和发展趋势 | 第12-13页 |
| ·纳米复合膜的致硬机理 | 第13-14页 |
| ·纳米多层膜 | 第14-17页 |
| ·纳米多层膜的概念和分类 | 第14-15页 |
| ·纳米多层膜的研究现状和发展趋势 | 第15页 |
| ·纳米多层膜的致硬机理 | 第15-17页 |
| ·摩擦磨损的理论基础 | 第17-21页 |
| ·摩擦 | 第17-19页 |
| ·磨损 | 第19-20页 |
| ·摩擦磨损过程 | 第20-21页 |
| ·选题意义与研究内容 | 第21-23页 |
| ·选题意义 | 第21页 |
| ·研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 薄膜的制备与表征 | 第23-29页 |
| ·引言 | 第23页 |
| ·磁控溅射镀膜原理与实验设备 | 第23-25页 |
| ·磁控溅射镀膜原理 | 第23-24页 |
| ·镀膜设备 | 第24-25页 |
| ·薄膜的检测方法和检测设备 | 第25-29页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第25页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第25-26页 |
| ·高温摩擦磨损测试仪 | 第26页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第26-27页 |
| ·能量色散谱仪(EDS) | 第27页 |
| ·纳米力学综合测试系统 | 第27-29页 |
| 第3章 磁控溅射 NbCN 复合膜的微结构和性能 | 第29-39页 |
| ·前言 | 第29页 |
| ·实验过程及材料 | 第29-30页 |
| ·实验结果及讨论 | 第30-37页 |
| ·沉积速率 | 第30-32页 |
| ·微结构 | 第32-33页 |
| ·力学性能 | 第33-34页 |
| ·摩擦磨损性能 | 第34-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 第4章 磁控溅射 NbSiN 复合膜的微结构和性能 | 第39-51页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·实验材料及方法 | 第39-40页 |
| ·实验结果及讨论 | 第40-50页 |
| ·成分及相组成 | 第40-41页 |
| ·力学性能 | 第41-44页 |
| ·摩擦磨损 | 第44-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第5章 磁控溅射 NbSiN/VN 多层膜膜的微结构和性能 | 第51-68页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·实验材料及方法 | 第51-53页 |
| ·NbSiN 和 VN 单层膜的沉积速率 | 第51页 |
| ·NbSiN/VN 多层膜的制备 | 第51-53页 |
| ·实验结果与分析 | 第53-66页 |
| ·单层 NbSiN、VN 薄膜的微结构 | 第53-54页 |
| ·多层膜的微结构 | 第54-55页 |
| ·多层膜的硬度 | 第55-56页 |
| ·摩擦磨损性能 | 第56-65页 |
| ·NbSiN/VN 多层膜致硬机理讨论 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 结论和展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 详细摘要 | 第78-82页 |