| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 1 绪论 | 第10-21页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·薄膜材料的研究现状 | 第10-11页 |
| ·新型薄膜材料的发展前景 | 第11页 |
| ·ZnO 材料的基本特征 | 第11-14页 |
| ·ZnO 的结构特征 | 第11-13页 |
| ·ZnO 晶体的缺陷特征 | 第13-14页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第14-15页 |
| ·溅射法 | 第14页 |
| ·分子束外延法 | 第14页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第14页 |
| ·电化学沉积法 | 第14-15页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第15页 |
| ·ZnO 薄膜的研究现状及其应用 | 第15-17页 |
| ·ZnO 薄膜的光学应用 | 第15-16页 |
| ·ZnO 薄膜的压电、光电应用 | 第16页 |
| ·ZnO 薄膜的气敏特性 | 第16页 |
| ·ZnO 在太阳能电池中的应用 | 第16-17页 |
| ·ZnO 基在稀磁半导体中的研究 | 第17-19页 |
| ·稀磁半导体 | 第17-18页 |
| ·ZnO 基稀磁半导体机制 | 第18-19页 |
| ·本论文的选题思路及研究内容 | 第19-21页 |
| 2 ZnO 薄膜的制备及表征 | 第21-32页 |
| ·ZnO 薄膜的制备过程 | 第21-24页 |
| ·基片的清洗 | 第21页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第21-24页 |
| ·样品的表征 | 第24-32页 |
| ·x 射线衍射仪 | 第24-26页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第26-28页 |
| ·物理性能测量仪 | 第28-29页 |
| ·振动样品磁强计 | 第29-32页 |
| 3 Cu 掺杂 ZnO 薄膜的制备及磁性研究 | 第32-49页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·Cu 掺杂 ZnO 稀磁半导体薄膜的制备条件及过程 | 第32-34页 |
| ·实验结果表征及讨论 | 第34-42页 |
| ·Cu 掺杂 ZnO 薄膜的形貌及能谱表征 | 第34-35页 |
| ·Cu 掺杂 ZnO 薄膜的结构表征 | 第35-38页 |
| ·Cu 掺杂 ZnO 薄膜的磁性分析 | 第38-42页 |
| ·结论 | 第42-43页 |
| ·不同基底生长 Cu 掺杂 ZnO 薄膜的性质及研究 | 第43-48页 |
| ·实验过程 | 第43页 |
| ·不同基底生长 Cu 掺杂 ZnO 薄膜的结构表征 | 第43-44页 |
| ·不同基底生长 Cu 掺杂 ZnO 薄膜的形貌表征 | 第44-45页 |
| ·不同基底生长 Cu 掺杂 ZnO 薄膜的磁性研究 | 第45-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 4 具有室温铁磁性的 Ag 掺杂 ZnO 薄膜的制备和表征 | 第49-56页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·实验方法 | 第49-50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-54页 |
| ·Ag-ZnO 的形貌及能谱表征 | 第50-51页 |
| ·不同掺杂量 Ag-ZnO 薄膜的结构表征 | 第51-52页 |
| ·薄膜的磁性表征及分析 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 5 总结 | 第56-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 攻读学位期间取得的科研成果清单 | 第64页 |
