用廉价原料合成钛硅分子筛TS-1的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 引言 | 第8-9页 |
| 1 文献综述 | 第9-20页 |
| ·钛硅分子筛概述 | 第9-14页 |
| ·钛硅分子筛的结构 | 第9-10页 |
| ·钛硅分子筛的合成 | 第10-12页 |
| ·TS-1合成中的影响因素 | 第12-13页 |
| ·钛硅分子筛TS-1的晶化机理 | 第13-14页 |
| ·钛硅分子筛TS-1表征方法 | 第14-16页 |
| ·紫外可见反射光谱(UV-Vis) | 第14页 |
| ·傅里叶变换红外光谱(FT-IR) | 第14-15页 |
| ·X射线粉末衍射(XRD) | 第15页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第15-16页 |
| ·钛硅分子筛TS-1的选择性氧化性能 | 第16-18页 |
| ·钛硅分子筛TS-1应用概况 | 第16-17页 |
| ·烯烃环氧化反应 | 第17-18页 |
| ·影响反应的因素 | 第18页 |
| ·课题的选择 | 第18-20页 |
| 2 实验方法 | 第20-24页 |
| ·实验原料 | 第20页 |
| ·水热法合成微米TS-1 | 第20-21页 |
| ·TS-1的表征 | 第21页 |
| ·X射线粉末衍射分析(XRD) | 第21页 |
| ·紫外漫反射光谱(UV-Vis) | 第21页 |
| ·傅里叶变换-红外光谱(FT-IR) | 第21页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第21页 |
| ·丙烯环氧化反应 | 第21-24页 |
| ·反应装置 | 第21页 |
| ·产物分析 | 第21-22页 |
| ·丙烯环氧化反应 | 第22页 |
| ·丙烯环氧化反应结果计算 | 第22-24页 |
| 3 静止釜合成微米TS-1 | 第24-42页 |
| ·硅钛比的影响 | 第24-34页 |
| ·用硅溶胶A合成微米TS.1 | 第24-28页 |
| ·用硅溶胶B合成微米TS.1 | 第28-31页 |
| ·用硅溶胶C合成微米TS.1 | 第31-34页 |
| ·硅源的影响 | 第34-38页 |
| ·合成相同硅钛比的TS-1 | 第34-37页 |
| ·合成不同硅钛比的TS-1的催化性质 | 第37-38页 |
| ·晶种的影响 | 第38-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 4 搅拌釜合成微米TS.1 | 第42-52页 |
| ·硅钛比的影响 | 第42-43页 |
| ·升温速度的影响 | 第43-46页 |
| ·搅拌速度的影响 | 第46-49页 |
| ·搅拌釜体积的影响 | 第49-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 5 晶种传递 | 第52-62页 |
| ·晶种传递次数的影响 | 第52-56页 |
| ·晶化时间的影响 | 第56-61页 |
| ·TS-1-2的晶化 | 第56-58页 |
| ·TS-1-3的晶化 | 第58-59页 |
| ·TS-1-4的晶化 | 第59-61页 |
| ·小结 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-70页 |
