| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| ·半导体激光器腔面钝化的发展 | 第7-9页 |
| ·高功率半导体激光器腔面薄膜的发展 | 第9-10页 |
| ·论文研究目的及内容 | 第10-13页 |
| 第二章 激光器的工作原理及光学灾变 | 第13-17页 |
| ·激光器的工作原理 | 第13-14页 |
| ·激光器的光学灾变 | 第14-17页 |
| 第三章 薄膜光学理论 | 第17-24页 |
| ·薄膜光学的电磁理论基础 | 第17-19页 |
| ·光学薄膜的光学特性计算方法 | 第19-24页 |
| 第四章 高功率半导体激光器腔面膜的设计 | 第24-37页 |
| ·薄膜材料的选择 | 第24-30页 |
| ·腔面膜的设计 | 第30-37页 |
| 第五章 薄膜的制备 | 第37-46页 |
| ·薄膜的制备装置及其工作原理 | 第37-42页 |
| ·薄膜的制备工艺 | 第42-45页 |
| ·实验结果 | 第45-46页 |
| 第六章 薄膜的测试及分析 | 第46-53页 |
| ·掺氢非晶硅制备实验结果分析 | 第46-49页 |
| ·在激光器上的应用测试及分析 | 第49-51页 |
| ·高反射膜的附着力和致密性测试及分析 | 第51-53页 |
| 结论 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-56页 |