| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·半导体光催化薄膜研究现状 | 第8-9页 |
| ·氧化钛的结构 | 第9-10页 |
| ·光催化反应 | 第10-15页 |
| ·光催化反应机制 | 第10-11页 |
| ·光催化反应速率、效率影响因素 | 第11-12页 |
| ·提高光催化性能的方法 | 第12-15页 |
| ·亲水性能 | 第15-18页 |
| ·亲水机理 | 第15-16页 |
| ·影响因素 | 第16-18页 |
| ·研究现状及应用 | 第18页 |
| ·目前存在的问题 | 第18-19页 |
| ·本文研究内容及意义 | 第19-20页 |
| 第二章 纳米氧化钛薄膜的制备及表征 | 第20-34页 |
| ·薄膜的制备及影响因素 | 第20-24页 |
| ·薄膜的制备 | 第20-23页 |
| ·工艺条件对制备氧化钛薄膜品质的影响 | 第23-24页 |
| ·纳米氧化钛薄膜的表征 | 第24-29页 |
| ·纳米氧化钛薄膜 XRD表征 | 第24-25页 |
| ·纳米氧化钛薄膜表面形貌 | 第25-27页 |
| ·TG分析 | 第27页 |
| ·FT-IR分析 | 第27-28页 |
| ·UV-vis光谱 | 第28-29页 |
| ·过渡金属掺杂纳米氧化钛薄膜的表征 | 第29-33页 |
| ·过渡金属掺杂纳米氧化钛薄膜结构表征 | 第29-31页 |
| ·过渡金属掺杂纳米氧化钛薄膜表面形貌 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 纳米氧化钛薄膜亲水性研究 | 第34-42页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·亲水性研究测试方法 | 第34-35页 |
| ·亲水性影响因素的研究 | 第35-38页 |
| ·浓度对薄膜亲水性的影响 | 第35-36页 |
| ·薄膜层数的影响 | 第36-37页 |
| ·热处理温度的影响 | 第37-38页 |
| ·过渡金属掺杂薄膜亲水性能研究 | 第38-41页 |
| ·铜掺杂对 TiO_2薄膜亲水性能的影响 | 第38页 |
| ·镍掺杂对 TiO_2薄膜亲水性能的影响 | 第38-40页 |
| ·铁掺杂 TiO_2薄膜亲水性研究 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 光催化降解有机物性能研究 | 第42-57页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·实验部分 | 第42-45页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第42页 |
| ·甲基橙的脱色 | 第42-43页 |
| ·甲基橙溶液的吸收光谱 | 第43-44页 |
| ·甲基橙溶液吸光度与浓度的关系 | 第44-45页 |
| ·光催化降解有机物活性研究 | 第45-49页 |
| ·初始浓度的影响 | 第45-46页 |
| ·pH值的影响 | 第46-48页 |
| ·薄膜层数的影响 | 第48页 |
| ·薄膜热处理温度的影响 | 第48-49页 |
| ·光照时间的影响 | 第49页 |
| ·过渡金属掺杂 TiO_2薄膜光催化降解有机物活性研究 | 第49-53页 |
| ·Cu~(2+)掺杂 TiO_2薄膜光催化性能研究 | 第50页 |
| ·Ni~(2+)掺杂 TiO_2薄膜光催化性能研究 | 第50-51页 |
| ·Fe~(3+)掺杂 TiO_2薄膜光催化性能研究 | 第51-53页 |
| ·过渡金属掺杂氧化钛薄膜机理研究 | 第53-54页 |
| ·掺杂离子电位 | 第53-54页 |
| ·掺杂离子的电子轨道构型 | 第54页 |
| ·掺杂离子的化合价 | 第54页 |
| ·掺杂离子的半径 | 第54页 |
| ·掺杂离子的浓度 | 第54页 |
| ·TiO_2薄膜的回收与催化剂中毒 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 结论与展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 攻读学位期间主要研究成果 | 第64页 |
