脉冲激光沉积法制备高质量ZnO薄膜及其缓冲层的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 致谢 | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-18页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·氧化锌基本性质 | 第12-15页 |
| ·氧化锌的晶体结构 | 第12-13页 |
| ·ZnO的电学性质 | 第13-15页 |
| ·ZnO的光学性质 | 第15页 |
| ·氧化锌材料的研究进展及应用 | 第15-16页 |
| ·本文研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 氧化锌薄膜的生长机制及其制备 | 第18-27页 |
| ·薄膜的生长机制 | 第18-19页 |
| ·薄膜形成过程 | 第18页 |
| ·薄膜择优定向生长 | 第18-19页 |
| ·ZnO薄膜制备方法 | 第19-23页 |
| ·实验样品制备 | 第23-27页 |
| ·脉冲激光沉积法原理及技术特点 | 第23-25页 |
| ·脉冲激光系统的组成 | 第25-26页 |
| ·薄膜制备过程 | 第26-27页 |
| 第三章 氧化锌薄膜表面形貌的研究 | 第27-39页 |
| ·原子力显微镜简介 | 第27-30页 |
| ·AFM的工作原理 | 第28页 |
| ·原子力显微镜的工作模式 | 第28-29页 |
| ·原子力显微镜的优点 | 第29-30页 |
| ·实验仪器简介 | 第30页 |
| ·表面形貌结果与讨论 | 第30-38页 |
| ·氧压对样品表面形貌的影响的 AFM研究 | 第30-33页 |
| ·频率对样品表面形貌的影响的 AFM研究 | 第33-35页 |
| ·温度对样品表面形貌的影响的 AFM研究 | 第35-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 氧化锌薄膜的XRD研究 | 第39-45页 |
| ·X射线衍射原理 | 第39-41页 |
| ·实验仪器简介 | 第41页 |
| ·样品的XRD分析与讨论 | 第41-44页 |
| ·不同衬底温度下样品的XRD分析 | 第41-42页 |
| ·不同频率下样品的XRD分析 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 氧化锌薄膜发光特性的研究 | 第45-52页 |
| ·光致发光特性 | 第45页 |
| ·ZnO发光机理的研究 | 第45-47页 |
| ·绿光的发光机制 | 第45-46页 |
| ·紫外光的发光机制 | 第46页 |
| ·其他光的发光机制 | 第46-47页 |
| ·不同的制备条件对ZnO薄膜光致发光特性的影响 | 第47-51页 |
| ·氧压对PL谱的影响 | 第47-49页 |
| ·衬底温度对PL谱的影响 | 第49-50页 |
| ·薄膜厚度对PL谱的影响 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第六章 氧化锌同质缓冲层的研究 | 第52-57页 |
| ·外延技术的发展 | 第52-53页 |
| ·实验结果与讨论 | 第53-57页 |
| ·缓冲层ZnO薄膜的AFM分析 | 第53-54页 |
| ·缓冲层ZnO薄膜的XRD分析 | 第54-56页 |
| ·缓冲层的作用探究 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第63页 |
