| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| ·LaB_6 热阴极发射材料 | 第9-15页 |
| ·LaB_6 的结构、性能及其应用 | 第9-10页 |
| ·LaB_6 材料的国内外研究进展 | 第10-11页 |
| ·LaB_6 粉体的制备方法 | 第11-12页 |
| ·LaB_6 单晶的制备研究 | 第12-13页 |
| ·LaB_6 多晶粉体的烧结 | 第13-14页 |
| ·LaB_6 复合材料的研究 | 第14-15页 |
| ·放电等离子烧结技术简介 | 第15-18页 |
| ·放电等离子烧结(SPS)装置及工作原理 | 第15-17页 |
| ·放电等离子烧结技术的特点及其应用 | 第17-18页 |
| ·本文研究的目的、意义及主要内容 | 第18-21页 |
| ·本文研究的目的和意义 | 第18-19页 |
| ·本文研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 实验方案与方法 | 第21-33页 |
| ·实验原料及初始粉末的制备 | 第21-27页 |
| ·初始粉末的制备 | 第21-23页 |
| ·反应温度的确定 | 第23-24页 |
| ·坯体制备与烧结成型 | 第24-26页 |
| ·SPS 过程的工艺研究 | 第26-27页 |
| ·实验设计 | 第27-28页 |
| ·实验设备与测试方法 | 第28-33页 |
| ·主要实验设备 | 第28页 |
| ·测试设备及测试方法 | 第28-33页 |
| 第3章 SPS 制备LaB_6纳米晶块体的工艺研究 | 第33-43页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·SPS 过程的工艺研究 | 第33-38页 |
| ·烧结时间、温度和位移的变化曲线分析 | 第34-37页 |
| ·真空度随烧结温度的变化曲线分析 | 第37页 |
| ·烧结工艺的确定 | 第37-38页 |
| ·烧结体性能测试 | 第38-42页 |
| ·烧结温度对样品致密度的影响 | 第38-39页 |
| ·烧结温度对样品硬度的影响 | 第39-41页 |
| ·烧结温度对抗弯强度的影响 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 SPS 制备LaB_6纳米晶块体的表征 | 第43-53页 |
| ·前言 | 第43页 |
| ·烧结样品的宏观照片 | 第43页 |
| ·化学成分分析 | 第43-44页 |
| ·LaB_6 烧结体的XRD 分析 | 第44-47页 |
| ·不同温度下烧结试样的XRD 分析 | 第44-45页 |
| ·烧结样品晶粒尺寸的求解 | 第45-47页 |
| ·扫描电镜观察分析 | 第47-49页 |
| ·扫描电镜表面分析 | 第47-48页 |
| ·扫描电镜断面分析 | 第48-49页 |
| ·透射电镜观察分析 | 第49-50页 |
| ·透射电镜样品的制备 | 第49页 |
| ·透射电镜下LaB_6 纳米晶块体的微观结构分析 | 第49-50页 |
| ·电子衍射谱的标定 | 第50页 |
| ·本章小结 | 第50-53页 |
| 第5章 LaB_6纳米晶块体在电子束焊机中的应用 | 第53-59页 |
| ·LaB_6 多晶体材料的应用 | 第53页 |
| ·LaB_6 纳米晶块体发射性能的测试 | 第53-57页 |
| ·测试原理和方法 | 第53-55页 |
| ·发射性能的测试与结果分析 | 第55-57页 |
| ·LaB_6 纳米晶块体在电子束焊机中的应用 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67页 |