摘要 | 第1-9页 |
Abstract | 第9-11页 |
第一章 前言 | 第11-41页 |
·课题研究背景和意义 | 第11-13页 |
·分离富集技术在ICP-OES中的应用 | 第13-14页 |
·分离富集方法介绍 | 第14-18页 |
·沉淀法 | 第14页 |
·蒸发浓缩法 | 第14-15页 |
·气化分离法 | 第15页 |
·火试金法 | 第15页 |
·萃取法 | 第15-16页 |
·离子交换法 | 第16-17页 |
·分子印迹技术 | 第17页 |
·电解和修饰电极富集 | 第17-18页 |
·固相萃取技术分离富集痕量元素介绍 | 第18-27页 |
·引言 | 第18页 |
·SPE基本原理 | 第18-19页 |
·SPE装置 | 第19-20页 |
·SPE的分类 | 第20-21页 |
·SPE常用的吸附剂 | 第21-26页 |
·SPE的展望 | 第26-27页 |
·本文研究内容 | 第27页 |
参考文献 | 第27-41页 |
第二章 纳米SiO_2的化学修饰及其分离富集痕量金属元素的应用研究 | 第41-76页 |
第一节 纳米SiO_2材料研究现状 | 第41-50页 |
1 概述 | 第41页 |
2 纳米二氧化硅的结构和性质 | 第41-43页 |
3 纳米SiO_2的主要制备方法 | 第43-46页 |
4 纳米SiO_2的表面修饰改性 | 第46-49页 |
5 修饰的纳米SiO_2作为痕量金属元素的固相萃取剂 | 第49-50页 |
第二节 化学修饰的纳米SiO_2对痕量重金属离子的选择吸附性能研究 | 第50-71页 |
1 实验部分 | 第50-53页 |
2 结果与讨论 | 第53-71页 |
·二甲氨基苯甲醛修饰的纳米SiO_2对Cr(Ⅲ),Cu(Ⅱ),Fe(Ⅲ)和Pb(Ⅱ)离子的选择性吸附性能研究 | 第53-59页 |
·磺基水杨酸修饰的纳米SiO_2对Fe(Ⅲ)的选择性吸附性能研究 | 第59-64页 |
·桑色素修饰的纳米SiO_2对Cd(Ⅱ),Cu(Ⅱ),Ni(Ⅱ),Pb(Ⅱ),Zn(Ⅱ)离子的选择性吸附性能研究 | 第64-71页 |
3 结论 | 第71页 |
参考文献 | 第71-76页 |
第三章 硅胶的修饰改性及其分离富集痕量金属元素的研究 | 第76-107页 |
第一节 硅胶的研究现状 | 第76-83页 |
1 概述 | 第76页 |
2 硅胶的分类及制备 | 第76-77页 |
3 硅胶的表面修饰改性 | 第77-80页 |
4 表面修饰的硅胶作为固相萃取吸附剂 | 第80-83页 |
第二节 表面修饰改性的硅胶对痕量重金属离子的吸附性能研究 | 第83-102页 |
1 实验部分 | 第83-85页 |
2 结果与讨论 | 第85-101页 |
·对-二甲氨基苯甲醛修饰的硅胶对Cr(Ⅲ),Cu(Ⅱ),Ni(Ⅱ),Pb(Ⅱ)和Zn(Ⅱ)离子的选择性吸附性能研究 | 第85-91页 |
·磺胺修饰的硅胶对Cu(Ⅱ),Zn(Ⅱ)和Ni(Ⅱ)离子的选择性吸附性能研究 | 第91-96页 |
·氧氟沙星修饰的硅胶对Cd(Ⅱ)和Pb(Ⅱ)离子的选择性吸附性能研究 | 第96-101页 |
3 结论 | 第101-102页 |
参考文献 | 第102-107页 |
第四章 活性炭的改性及其分离富集痕量金属元素的行为研究 | 第107-124页 |
第一节 活性炭的研究现状 | 第107-113页 |
1 概述 | 第107-109页 |
2 活性炭材料的活化改性 | 第109-112页 |
3 活性炭的应用 | 第112页 |
4 改性的活性炭作为金属元素的固相萃取吸附剂 | 第112-113页 |
第二节 铜试剂负载活性炭对Pb(Ⅱ)和Cr(Ⅲ)离子的吸附性能研究 | 第113-119页 |
1 实验部分 | 第113-115页 |
2 结果与讨论 | 第115-119页 |
3 结论 | 第119页 |
参考文献 | 第119-124页 |
第五章 分子印迹聚合物的制备及其对目标离子的分离富集吸附性研究 | 第124-140页 |
第一节 分子印迹技术发展的现状 | 第124-128页 |
·发展背景 | 第124-125页 |
·分子印迹聚合物的基本原理 | 第125-126页 |
·分子印迹聚合物的制备 | 第126-127页 |
·分子印迹聚合物技术在固相萃取中的应用 | 第127-128页 |
第二节 铅(Ⅱ)离子印迹聚合物的制备及其分离富集铅(Ⅱ)离子的性能研究 | 第128-135页 |
引言 | 第128页 |
1 实验部分 | 第128-130页 |
2 结果与讨论 | 第130-135页 |
3 结论 | 第135页 |
参考文献 | 第135-140页 |
结论与展望 | 第140-142页 |
在读期间论文 | 第142-144页 |
致谢 | 第144页 |