| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·光学薄膜的发展现状 | 第7-9页 |
| ·研究背景及内容 | 第9-11页 |
| 第二章 薄膜光学的基本理论 | 第11-20页 |
| ·薄膜干涉原理 | 第11-14页 |
| ·电磁理论基础 | 第14-17页 |
| ·光学薄膜特性计算 | 第17-20页 |
| 第三章 材料选取 | 第20-26页 |
| ·基底材料 | 第20-22页 |
| ·膜料选取 | 第22-26页 |
| 第四章 膜系设计 | 第26-36页 |
| ·截止带的中心透射率 | 第26-27页 |
| ·通带上10.6μm的透射率 | 第27-30页 |
| ·优化设计原理及方法 | 第30-34页 |
| ·膜系的确定 | 第34-36页 |
| 第五章 薄膜制备 | 第36-44页 |
| ·镀膜设备 | 第36-37页 |
| ·工艺因素 | 第37-38页 |
| ·膜厚监控 | 第38-41页 |
| ·考夫曼离子源 | 第41-43页 |
| ·制备过程 | 第43-44页 |
| 第六章 测试结果与分析 | 第44-45页 |
| 结论 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |