| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 1. 引言 | 第9-32页 |
| ·研究背景简介 | 第9-15页 |
| ·红外线及红外窗口 | 第9-10页 |
| ·红外线的应用 | 第10页 |
| ·红外探测窗口的基体材料及本文在ZnSe上镀制增透和保护膜的意义 | 第10-15页 |
| ·红外保护膜料及膜系设计 | 第15-24页 |
| ·近年来发展的新型红外保护材料及膜系制备 | 第15-19页 |
| ·红外薄膜系统设计的方法及应用研究 | 第19-24页 |
| ·本文的研究内容和工作 | 第24-26页 |
| 小结 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-32页 |
| 2. 红外薄膜系统的设计和分析 | 第32-61页 |
| ·红外薄膜系统的理论基础 | 第32-40页 |
| ·电磁波在介质中传播的基本理论 | 第32-35页 |
| ·薄膜光学关于单层膜和多层膜的计算方法 | 第35-36页 |
| ·薄膜光学关于多层膜设计原理和方法 | 第36-40页 |
| ·红外增透膜系的初步设计 | 第40-50页 |
| ·红外增透膜系设计要求 | 第40页 |
| ·设计的基本方法及相应初步设计 | 第40-50页 |
| ·具体方案的设计 | 第50-58页 |
| ·具体的几种材料的分析 | 第50-51页 |
| ·膜层的选择和相应的设计方案 | 第51-55页 |
| ·设计方案的误差和结构偏差分析 | 第55-58页 |
| 小结 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 3. 红外透射薄膜系统的制备技术研究 | 第61-79页 |
| ·红外透射薄膜的基本制备技术 | 第61-64页 |
| ·中频双靶磁控反应溅射技术 | 第64-70页 |
| ·磁控溅射的特点 | 第65页 |
| ·磁控溅射沉积镀膜机理 | 第65-67页 |
| ·中频反应溅射和共溅射的优点 | 第67-70页 |
| ·溅射镀膜的基本理论 | 第70-75页 |
| ·溅射机理和基本理论 | 第70-71页 |
| ·溅射的理论解释 | 第71-72页 |
| ·影响薄膜质量的主要工艺条件 | 第72-75页 |
| 小结 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-79页 |
| 4. 红外薄膜系统的制备和分析 | 第79-97页 |
| ·红外薄膜系统的制备工艺过程 | 第79-81页 |
| ·样品的清洗 | 第79-80页 |
| ·薄膜的沉积 | 第80-81页 |
| ·薄膜光学常数的测量及和工艺参数的关系 | 第81-87页 |
| ·薄膜光学常数的测量 | 第81-84页 |
| ·确定光学常数与薄膜成分的关系 | 第84-87页 |
| ·硒化锌上制备碳化锗不均匀膜的主要参数及红外实测透过谱 | 第87-89页 |
| ·薄膜样品的微观结构测试 | 第89-93页 |
| ·X射线衍射(XRD)测试 | 第89-91页 |
| ·激光拉曼测试(Raman) | 第91-93页 |
| 小结 | 第93-94页 |
| 参考文献 | 第94-97页 |
| 5. 结束语 | 第97-98页 |
| 作者在读期间科研成果简介 | 第98-100页 |
| 致谢 | 第100页 |