| 第一章 文献综述 | 第1-19页 |
| ·酞菁化学概述 | 第7-10页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·酞菁的合成方法 | 第8-9页 |
| ·酞菁的应用 | 第9-10页 |
| ·不等同取代酞菁 | 第10-18页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·不等同取代酞菁的合成方法 | 第10-15页 |
| ·概率缩合法 | 第10-11页 |
| ·聚合物载体法 | 第11-12页 |
| ·亚酞菁的扩环反应法 | 第12-13页 |
| ·半酞菁法 | 第13页 |
| ·交叉缩合法 | 第13-14页 |
| ·其它方法 | 第14-15页 |
| ·不等同取代酞菁的应用研究 | 第15-17页 |
| ·在非线性光学(NLO)领域的应用 | 第15-16页 |
| ·在光致电荷转移方面的应用 | 第16页 |
| ·作为纳米器件的应用 | 第16-17页 |
| ·AB_3 型酞菁的研究现状 | 第17-18页 |
| ·本论文的立题思路 | 第18-19页 |
| 第二章 实验部分 | 第19-30页 |
| ·实验试剂 | 第19页 |
| ·主要实验仪器 | 第19-20页 |
| ·化合物制备 | 第20-26页 |
| ·原料准备 | 第20页 |
| ·酞菁前驱体的合成 | 第20-22页 |
| ·AB_3 型取代酞菁钴配合物的合成 | 第22-24页 |
| ·A_2B_2 型取代酞菁钴配合物的合成 | 第24-26页 |
| ·等同取代酞菁钴配合物的合成 | 第26页 |
| ·产物表征 | 第26-28页 |
| ·合成的讨论 | 第28-30页 |
| 第三章 产物表征及谱学性质研究 | 第30-52页 |
| ·X-射线单晶结构分析 | 第30-35页 |
| ·3,6-二异丙氧基邻苯二甲腈的晶体结构 | 第30-32页 |
| ·4-(2,4-二叔丁基苯氧基)邻苯二甲腈的晶体结构 | 第32-33页 |
| ·一种取代酞菁钴配合物晶体结构的初步测定 | 第33-35页 |
| ·高效液相色谱分析 | 第35-36页 |
| ·元素分析 | 第36-37页 |
| ·质谱分析 | 第37-40页 |
| ·红外光谱分析 | 第40-42页 |
| ·紫外可见光谱的研究 | 第42-52页 |
| ·取代基的影响 | 第43-46页 |
| ·溶剂的影响 | 第46页 |
| ·聚集态的研究 | 第46-52页 |
| 总结与展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 附录I 晶体结构数据 | 第59-64页 |
| 附录II 谱学性质表征谱图 | 第64-76页 |
| 个人简历、在学期间发表的论文 | 第76页 |