| 第一章 绪论 | 第1-26页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| ·半导体光催化原理 | 第10-12页 |
| ·半导体光催化的基本概念 | 第10页 |
| ·半导体激发带跃迁和光诱发电子在催化剂表面上的转移过程 | 第10-12页 |
| ·半导体光催化技术的应用 | 第12-15页 |
| ·水处理 | 第12-13页 |
| ·废气处理 | 第13页 |
| ·杀菌 | 第13页 |
| ·表面自洁 | 第13-14页 |
| ·热岛 | 第14页 |
| ·光解水制氢 | 第14-15页 |
| ·半导体光催化技术存在的问题与发展前景 | 第15-17页 |
| ·粉末的分散问题 | 第15-16页 |
| ·高浓度废水透光率 | 第16页 |
| ·有机污染物降解中间产物的复杂性 | 第16页 |
| ·工业化成本较高 | 第16页 |
| ·半导体光催化技术的发展前景 | 第16-17页 |
| ·半导体光催化活性的提高途径 | 第17-18页 |
| ·本课题的提出 | 第18-26页 |
| ·层状钛酸盐及其柱撑产物 | 第19-20页 |
| ·层状铌酸盐 | 第20-21页 |
| ·钙钛矿型层状氧化物 | 第21-22页 |
| ·本课题的提出及主要研究内容 | 第22-26页 |
| 第二章 实验方案与测试装置 | 第26-33页 |
| ·实验流程 | 第26-27页 |
| ·实验设备及原料 | 第27-28页 |
| ·实验设备 | 第27页 |
| ·实验原料 | 第27-28页 |
| ·实验所需装置及实验中各装置操作要点 | 第28-33页 |
| ·恒温搅拌装置 | 第28页 |
| ·光解水制氢测试装置概况 | 第28-29页 |
| ·真空系统简图 | 第29-30页 |
| ·反应容器 | 第30-31页 |
| ·实验用人工光源 | 第31-33页 |
| 第三章 CdS/H_4Nb_6O_(17)粉末的制备及其光催化性能 | 第33-46页 |
| ·样品制备 | 第33-38页 |
| ·K_4Nb_6O_(17)粉末的制备 | 第33页 |
| ·K_4Nb_6O_(17)粉末层间离子交换(酸化) | 第33页 |
| ·K_4Nb_6O_(17)粉末的层柱化(正丙胺的插入) | 第33-34页 |
| ·(C_3H_7NH_3)_4Nb_6O_(17)的离子交换(Cd~(2+)的进入) | 第34页 |
| ·硫化反应 | 第34-35页 |
| ·粉末的光解水反应 | 第35-36页 |
| ·标准曲线的绘制 | 第36-37页 |
| ·测定测试回路的体积 | 第37-38页 |
| ·实验结果及分析 | 第38-44页 |
| ·XRD分析 | 第38-40页 |
| ·BET分析 | 第40-42页 |
| ·光吸收特性分析 | 第42-43页 |
| ·光解水制氢结果分析 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 CdS/H_4Nb_6O_(17)薄膜的制备及其光催化性能 | 第46-56页 |
| ·实验设备及原料 | 第46-47页 |
| ·实验设备 | 第46页 |
| ·实验原料 | 第46-47页 |
| ·样品制备 | 第47-49页 |
| ·K_4Nb_6O_(17)粉末的制备 | 第47页 |
| ·K_4Nb_6O_(17)薄膜的制备 | 第47-48页 |
| ·K_4Nb_6O_(17)薄膜的层间离子交换(酸化) | 第48页 |
| ·H_4Nb_6O_(17)薄膜的层柱化 | 第48页 |
| ·薄膜的离子交换 | 第48页 |
| ·H_2S气体的通入 | 第48-49页 |
| ·薄膜的表征 | 第49-50页 |
| ·XRD分析 | 第49页 |
| ·光吸收特性分析 | 第49页 |
| ·薄膜的扫描电镜分析 | 第49-50页 |
| ·薄膜的光解水制氢 | 第50页 |
| ·实验结果及分析 | 第50-55页 |
| ·XRD测试结果 | 第50-52页 |
| ·薄膜的SEM形貌分析 | 第52-53页 |
| ·薄膜的光吸收性能分析 | 第53-54页 |
| ·薄膜的光解水性能测试结果 | 第54页 |
| ·对照分析--普通载玻片与石英载玻片上的薄膜 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
