| 1 绪论 | 第1-9页 |
| ·课题背景 | 第5-6页 |
| ·光学综合孔径成像技术的历史回顾 | 第6页 |
| ·光学综合孔径成像技术发展的必然及本论文研究的内容 | 第6-7页 |
| ·项目来源及本文的主要研究工作 | 第7-9页 |
| 2 光学综合孔径成像技术基础理论 | 第9-16页 |
| ·范西特-泽尼克定理在天文光干涉技术中的应用 | 第9-13页 |
| ·光学综合孔径成像原理和图像重构 | 第13页 |
| ·闭合相位技术及U-V覆盖技术 | 第13-15页 |
| ·小结 | 第15-16页 |
| 3 光学综合孔径干涉成像的建模 | 第16-25页 |
| ·相位相对不变的多孔干涉(静态) | 第16-22页 |
| ·动态的二孔干涉 | 第22-23页 |
| ·压电陶瓷微位移驱动器的特性 | 第23-24页 |
| ·小结 | 第24-25页 |
| 4 光学综合孔径干涉成像原理的验证 | 第25-40页 |
| ·静态共光路多孔干涉 | 第25-33页 |
| ·干涉条纹的方向与基线B的关系 | 第26-27页 |
| ·掩模板上小孔位置变化(B不变)对干涉条纹的影响 | 第27-28页 |
| ·掩模板上基线B的大小变化对干涉条纹的影响 | 第28-29页 |
| ·三孔径掩模板时的干涉条纹 | 第29-33页 |
| ·静态分光路二孔干涉 | 第33-37页 |
| ·掩模板位置的变化对干涉条纹的影响 | 第34-35页 |
| ·静态分光路的二孔干涉 | 第35-37页 |
| ·动态分光路的二孔干涉 | 第37-39页 |
| ·小结 | 第39-40页 |
| 全文小结 | 第40-41页 |
| 致谢 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-44页 |
| 附录A: 图3.1实际实验装置照片 | 第44-45页 |
| 附录B: 图4.10实际实验装置照片 | 第45-46页 |