纳晶TiO2薄膜的制备及其半导体性能的研究
| 前 言 | 第1-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-31页 |
| ·纳米晶半导体材料概述 | 第9-16页 |
| ·纳米材料的特性 | 第9-10页 |
| ·纳米晶半导体材料的特性 | 第10-12页 |
| ·纳米晶半导体材料的制备方法 | 第12-15页 |
| ·纳米晶半导体材料的应用前景 | 第15-16页 |
| ·金属氧化物半导体的能带结构及其缺陷 | 第16-19页 |
| ·半导体的能带结构 | 第16-17页 |
| ·氧化物半导体的缺陷 | 第17-19页 |
| ·半导体气体传感器 | 第19-24页 |
| ·半导体气体传感器的类型 | 第19-20页 |
| ·金属氧化物半导体材料的气敏机理 | 第20-24页 |
| ·纳米晶TiO2薄膜 | 第24-30页 |
| ·纳米晶TiO2薄膜简介 | 第24-25页 |
| ·纳米晶TiO2薄膜的制备方法 | 第25-28页 |
| ·纳米晶TiO2薄膜的应用 | 第28-30页 |
| ·论文工作的提出 | 第30-31页 |
| 第二章 模板引导溶胶－凝胶法制备工艺的研究 | 第31-48页 |
| ·实验部分 | 第31-34页 |
| ·实验仪器设备与主要试剂 | 第31-32页 |
| ·TiO2薄膜的制备 | 第32-34页 |
| ·TiO2薄膜的表征 | 第34-35页 |
| ·干凝胶的热重－差热分析 | 第34页 |
| ·薄膜的表面形貌分析 | 第34-35页 |
| ·薄膜的晶体型态分析 | 第35页 |
| ·实验结果与讨论 | 第35-47页 |
| ·水/钛酸丁酯对凝胶性质和薄膜晶型的影响 | 第35-37页 |
| ·螯合剂乙酰丙酮的加入量 | 第37-38页 |
| ·TiO2薄膜热处理温度的确定 | 第38-39页 |
| ·TiO2薄膜热处理时间的确定 | 第39-41页 |
| ·基片对TiO2薄膜形貌的影响 | 第41-42页 |
| ·厚度对TiO2薄膜表面形貌的影响 | 第42-45页 |
| ·模板剂对TiO2薄膜的影响 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第三章 TiO2薄膜半导体性能的研究 | 第48-69页 |
| ·实验部分 | 第48页 |
| ·平行电极的制备 | 第48页 |
| ·纳米晶TiO2薄膜的制备 | 第48页 |
| ·纳米晶TiO2薄膜的表征 | 第48-51页 |
| ·薄膜的微结构分析 | 第48-49页 |
| ·薄膜的透光率和吸光度 | 第49页 |
| ·薄膜的荧光光谱分析 | 第49页 |
| ·薄膜的表面成分分析 | 第49-50页 |
| ·薄膜的气敏性能测试方法 | 第50-51页 |
| ·实验结果与讨论 | 第51-66页 |
| ·纳米晶TiO2薄膜的微结构 | 第51-52页 |
| ·纳米晶TiO2薄膜的表面成分分析 | 第52-57页 |
| ·纳米晶TiO2薄膜的光学特性 | 第57-60页 |
| ·纳米晶TiO2薄膜的阻温特性 | 第60-61页 |
| ·陶瓷基片上TiO2薄膜的气敏特性 | 第61-63页 |
| ·蓝宝石基片上TiO2薄膜的微观形貌和气敏特性 | 第63-66页 |
| ·气敏机理的初步探讨 | 第66-67页 |
| ·基片Al3＋向薄膜的扩散 | 第66页 |
| ·氧间隙原子的产生 | 第66-67页 |
| ·纳米TiO2晶膜的气敏模型 | 第67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 第四章 结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 攻读硕士期间发表论文情况 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
