等离子体辅助沉积大口径减反射膜
| 第一章 引言 | 第1-16页 |
| ·光学薄膜的制造技术 | 第8-11页 |
| ·减反射膜 | 第11-12页 |
| ·大面积镜片的均匀性分析 | 第12-16页 |
| 第二章 光学薄膜基本理论和减反射膜设计 | 第16-28页 |
| ·光学薄膜基本理论 | 第16-21页 |
| ·减反射膜设计 | 第21-28页 |
| ·实验的目标 | 第21页 |
| ·减反射膜设计的注意事项 | 第21-22页 |
| ·镀膜材料的优选 | 第22页 |
| ·基底材料的优选 | 第22-23页 |
| ·膜系设计 | 第23-28页 |
| ·单层减反射膜 | 第23-24页 |
| ·双层减反射膜 | 第24-25页 |
| ·三层减反射膜 | 第25页 |
| ·多层减反射膜 | 第25-28页 |
| 第三章 等离子体辅助镀膜工艺 | 第28-44页 |
| ·等离子体辅助镀膜原理 | 第28页 |
| ·真空设备 | 第28-34页 |
| ·IC／5石英晶体膜厚控制仪 | 第30-32页 |
| ·工作原理 | 第30-31页 |
| ·IC／5的使用 | 第31-32页 |
| ·无栅等离子体源(GIS) | 第32-34页 |
| ·单层TiO_2膜 | 第34-36页 |
| ·单层SiO_2膜 | 第36-37页 |
| ·等离子辅助沉积薄膜的微观性质 | 第37-41页 |
| ·等离子辅助沉积薄膜的力学性质及其检测 | 第41-43页 |
| ·宽带减反射膜的制备及检测 | 第43-44页 |
| 第四章 大面积光学薄膜均匀性分析 | 第44-55页 |
| ·经典理论 | 第44-46页 |
| ·旋转平面夹具 | 第46-48页 |
| ·实验思路 | 第48-51页 |
| ·实验片放置 | 第48-49页 |
| ·有限元方法的几个处理 | 第49-51页 |
| ·蒸发源发射特性的处理 | 第49-50页 |
| ·蒸发源旋转、倾斜的处理 | 第50页 |
| ·旋转平面夹具的计算 | 第50-51页 |
| ·均匀性计算框图 | 第51页 |
| ·实验过程 | 第51-55页 |
| ·蒸气云参数n、A的确定 | 第51-53页 |
| ·真空室几何配置的改进 | 第53-54页 |
| ·大口径减反射膜均匀性分布分析 | 第54-55页 |
| 第五章 结束语 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
