臭氧发生系统中干燥净化装置的研制
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 前言 | 第10-20页 |
| ·臭氧的性质 | 第10-12页 |
| ·臭氧的物理性质 | 第10页 |
| ·臭氧的化学性质 | 第10-12页 |
| ·臭氧的功能与机理描述 | 第12-13页 |
| ·杀菌消毒 | 第12-13页 |
| ·除臭 | 第13页 |
| ·保鲜 | 第13页 |
| ·解毒 | 第13页 |
| ·臭氧发生方法概述 | 第13-16页 |
| ·光化学法 | 第13-14页 |
| ·电化学法 | 第14-15页 |
| ·电晕放电法 | 第15-16页 |
| ·臭氧的应用 | 第16-18页 |
| ·臭氧的应用领域 | 第16-17页 |
| ·国外臭氧技术开发应用发展现状 | 第17-18页 |
| ·国内臭氧技术开发应用发展现状 | 第18页 |
| ·臭氧技术的发展趋势 | 第18页 |
| ·论文的背景及主要任务 | 第18-20页 |
| ·论文的背景 | 第19页 |
| ·主要任务 | 第19-20页 |
| 第2章 电晕放电法产生臭氧的机理 | 第20-29页 |
| ·等离子荷电产生臭氧的过程 | 第20-21页 |
| ·电晕放电产生臭氧的机理 | 第21-29页 |
| ·与臭氧形成有关的反应 | 第21-22页 |
| ·电晕放电的特性 | 第22-26页 |
| ·介质阻挡强电离产生臭氧技术 | 第26-27页 |
| ·沿面放电产生臭氧技术 | 第27-29页 |
| 第3章 原料气对臭氧发生的影响及其干燥净化的原理 | 第29-42页 |
| ·原料气对臭氧发生的影响 | 第29-32页 |
| ·原料气中的水分对臭氧发生的影响 | 第29-30页 |
| ·原料气的流量对臭氧发生的影响 | 第30-31页 |
| ·原料气中氧的含量对臭氧发生的影响 | 第31-32页 |
| ·其它 | 第32页 |
| ·提高原料气的质量 | 第32-38页 |
| ·降低原料气露点 | 第33-35页 |
| ·提高气源中氧气含量 | 第35-37页 |
| ·原料气的除尘净化 | 第37-38页 |
| ·半导体制冷 | 第38-42页 |
| ·半导体制冷概述 | 第38-39页 |
| ·半导体制冷的原理 | 第39-42页 |
| 第4章 原料气净化系统的研制 | 第42-56页 |
| ·臭氧发生工艺简介 | 第42-43页 |
| ·原料气净化工艺简介 | 第43-44页 |
| ·常规干燥净化系统 | 第44-51页 |
| ·常规干燥净化系统的流程 | 第44页 |
| ·常规干燥净化系统的研制 | 第44-49页 |
| ·机械方面的设计 | 第49-51页 |
| ·半导体干燥净化系统 | 第51-56页 |
| ·半导体干燥净化器的研制 | 第52-55页 |
| ·半导体干燥净化器的工作原理 | 第55-56页 |
| 第5章 试验结果与讨论 | 第56-62页 |
| ·干燥系统的性能评价试验 | 第56-58页 |
| ·试验与数据 | 第56-58页 |
| ·结论与分析 | 第58页 |
| ·原料气对臭氧产生的影响试验 | 第58-61页 |
| ·实验与数据 | 第58-60页 |
| ·结论与分析 | 第60-61页 |
| ·干燥系统的对比 | 第61-62页 |
| 第6章 结果与展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 附表1 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
