模板法制备一维同轴纳米材料
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-27页 |
| ·同轴纳米电缆概述 | 第9-10页 |
| ·同轴纳米电缆制备方法 | 第10-13页 |
| ·水热法 | 第10页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第10-11页 |
| ·基于纳米线法 | 第11页 |
| ·化学气相沉积法 | 第11页 |
| ·激光烧蚀法 | 第11-12页 |
| ·碳热还原与蒸发-凝聚法 | 第12页 |
| ·同轴静电纺丝法 | 第12页 |
| ·模板法 | 第12-13页 |
| ·模板的种类 | 第13-14页 |
| ·多孔阳极氧化铝模板 | 第14-20页 |
| ·阳极氧化原理 | 第14-15页 |
| ·制备AAO模板的传统工艺 | 第15-17页 |
| ·氧化铝模板制备的影响因素 | 第17-20页 |
| ·铝片预处理对模板孔的影响 | 第17-18页 |
| ·氧化电压对模板孔的影响 | 第18页 |
| ·电解液的成分、浓度及pH值对模板的影响 | 第18-19页 |
| ·电解液温度对模板孔的影响 | 第19页 |
| ·搅拌对氧化膜的影响 | 第19页 |
| ·电解液中杂质的影响 | 第19-20页 |
| ·氧化铝模板合成纳米同轴电缆 | 第20-25页 |
| ·电化学沉积 | 第20-21页 |
| ·无电化学沉积 | 第21页 |
| ·化学共沉积-选择性刻蚀法 | 第21-22页 |
| ·多步模板复制法 | 第22-23页 |
| ·盐溶液-氢气退火法 | 第23-24页 |
| ·溶胶-凝胶-氢气退火法 | 第24页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第24-25页 |
| ·课题意义 | 第25-27页 |
| 第二章 阳极氧化铝模板的制备 | 第27-35页 |
| ·AAO模板的制备工艺 | 第27-30页 |
| ·变换电压制备氧化铝模板 | 第30-33页 |
| ·40V电压下一次和二次阳极氧化 | 第31页 |
| ·40V电压下一次氧化,60V电压下二次氧化 | 第31-32页 |
| ·40V电压下一次氧化,80V电压下二次氧化 | 第32-33页 |
| ·AAO模板的扩孔参数 | 第33-35页 |
| 第三章 电化学沉积纳米线及其表征 | 第35-50页 |
| ·电化学沉积方法概述 | 第35-36页 |
| ·电化学沉积金属纳米线 | 第36-41页 |
| ·电化学沉积铜纳米线 | 第36-39页 |
| ·电化学沉积镍纳米线 | 第39-41页 |
| ·制备半导体纳米线 | 第41-50页 |
| ·制备CdS纳米线 | 第42-45页 |
| ·制备ZnS纳米线 | 第45-47页 |
| ·制备ZnO纳米线 | 第47-50页 |
| 第四章 铜镍一维同轴纳米材料的制备及表征 | 第50-60页 |
| ·铜镍一维同轴纳米电缆的制备 | 第51-52页 |
| ·铜镍一维同轴纳米电缆的表征 | 第52-60页 |
| ·形貌表征 | 第52-56页 |
| ·拉曼光谱测试 | 第56-60页 |
| 第五章 总结及展望 | 第60-63页 |
| ·结论 | 第60-61页 |
| ·展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-71页 |
| 硕士期间撰写的论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
