二维声子晶体负折射成像机理与特性研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·负折射介质 | 第8-13页 |
| ·负折射率的基本概念 | 第9-10页 |
| ·判定负折射行为的三种方式 | 第10-13页 |
| ·光子晶体负折射材料 | 第13-14页 |
| ·声子晶体中的负折射 | 第14-17页 |
| ·声子晶体的理论研究方法 | 第14-16页 |
| ·声子晶体负折射的研究历史和现状 | 第16-17页 |
| ·本研究课题来源和主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 有限场的多重散射理论 | 第19-32页 |
| ·引言 | 第19页 |
| ·理想弹性介质 | 第19-20页 |
| ·弹性波波动方程 | 第20-22页 |
| ·单层散射体的弹性波散射 | 第22-28页 |
| ·平面弹性波通过多层声子晶体的反射和透射系数计算 | 第28-29页 |
| ·两类常见的排列 | 第29-31页 |
| ·二维正方形排列 | 第29-30页 |
| ·二维三角形排列 | 第30-31页 |
| ·结果和讨论 | 第31-32页 |
| 第三章 二维声子晶体平板成像规律 | 第32-49页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·基本模型 | 第32页 |
| ·高斯波源下平板的折射现象 | 第32-36页 |
| ·点源成像规律 | 第36-41页 |
| ·一般规律 | 第37-38页 |
| ·理想成像与非理想成像 | 第38-41页 |
| ·入口范围对成像的影响 | 第41-42页 |
| ·不同入射角信号的会聚特征 | 第42-46页 |
| ·平板入射面对成像的影响 | 第46-47页 |
| ·结论 | 第47-49页 |
| 第四章 平板结构对成像的影响 | 第49-61页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·材料参数对成像的影响 | 第49-54页 |
| ·基体材料参数变化对成像的影响 | 第49-52页 |
| ·散射体材料参数变化对成像的影响 | 第52-54页 |
| ·结构参数对成像的影响 | 第54-57页 |
| ·周期拓扑结构对成像的影响 | 第54-56页 |
| ·填充率对成像的影响 | 第56-57页 |
| ·平板厚度变化对成像的影响 | 第57-58页 |
| ·源板距离对成像的影响 | 第58-60页 |
| ·结论 | 第60-61页 |
| 第五章 无序对平板成像的影响 | 第61-73页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·特定无序结构下声子晶体成像 | 第61-65页 |
| ·改变x轴附近的柱体排列 | 第62-63页 |
| ·在声波传播方向上的无序对成像的影响 | 第63-65页 |
| ·位置无序对成像的影响 | 第65-69页 |
| ·柱体位置随机变化对成像的影响 | 第65-67页 |
| ·随机无序引起带结构变化 | 第67-69页 |
| ·柱体半径无序对成像影响 | 第69-70页 |
| ·位置无序和半径无序比较 | 第70-71页 |
| ·结论 | 第71-73页 |
| 第六章 结论与展望 | 第73-75页 |
| ·结论 | 第73-74页 |
| ·展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 攻读学位期间的主要研究成果 | 第82页 |
