| 摘要 | 第1-10页 |
| Abstract | 第10-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-50页 |
| ·贮氢材料 | 第14-22页 |
| ·氢能研究的意义 | 第14页 |
| ·贮氢方式及要求 | 第14-17页 |
| ·金属(合金)贮氢材料 | 第17-20页 |
| ·非金属贮氢材料 | 第20-21页 |
| ·有机液体贮氢材料 | 第21页 |
| ·配位氢化物 | 第21-22页 |
| ·NaAlH_4及其研究进展 | 第22-36页 |
| ·NaAlH_4的合成 | 第23-25页 |
| ·钛催化剂对NaAlH_4脱/加氢性能的影响 | 第25-30页 |
| ·钛催化剂催化NaAlH_4脱/加氢的X射线吸收精细结构研究 | 第30-36页 |
| ·X射线吸收谱学(XAFS) | 第30-31页 |
| ·XAFS的发展历史 | 第31-32页 |
| ·XAFS的技术特点 | 第32-33页 |
| ·XAFS在含Ti催化剂催化NaAlH_4脱/加氢研究中的应用 | 第33-36页 |
| ·氢致光电性能变化现象 | 第36-47页 |
| ·纯稀土元素薄膜 | 第37-39页 |
| ·光电学性能 | 第37-38页 |
| ·滞回现象 | 第38-39页 |
| ·Mg-RE合金薄膜 | 第39-42页 |
| ·MgH_2的光电学性能 | 第39-40页 |
| ·暗黑吸收态 | 第40-41页 |
| ·Mg-RE合金的光电学性能 | 第41-42页 |
| ·Mg-TM合金薄膜 | 第42-47页 |
| ·光学性能 | 第43-44页 |
| ·低反射金属态的自组装双层结构 | 第44-47页 |
| ·电学性能 | 第47页 |
| ·小结 | 第47页 |
| ·论文选题背景、技术路线及主要研究内容 | 第47-50页 |
| 第二章 XAFS的基本理论、测量方法和数据分析 | 第50-65页 |
| ·EXAFS产生的物理机制 | 第50-51页 |
| ·EXAFS基本理论 | 第51-59页 |
| ·X射线吸收的基本规律 | 第51-54页 |
| ·XAFS基本方程的推导 | 第54-57页 |
| ·有序、无序体系的EXAFS表达式 | 第57-59页 |
| ·XAFS实验测量方法 | 第59-61页 |
| ·透射法 | 第59-60页 |
| ·荧光法 | 第60-61页 |
| ·EXAFS的数据分析 | 第61-65页 |
| 第三章 含Ti催化剂掺杂的NaH/Al粉末加氢前后的XAFS研究 | 第65-79页 |
| ·样品制备及实验装置 | 第65-69页 |
| ·样品厚度的理论计算 | 第65-68页 |
| ·样品制备 | 第68-69页 |
| ·掺杂TiF_3的NaH/Al粉末加氢过程中Ti原子的局域结构 | 第69-73页 |
| ·X射线吸收近边结构(XANES) | 第69-70页 |
| ·振荡函数 | 第70页 |
| ·径向分布函数 | 第70-71页 |
| ·K空间拟合结果及结构参数 | 第71-73页 |
| ·小结 | 第73页 |
| ·掺杂Ti(OBu~n)_4的NaH/Al粉末加氢过程中Ti原子的局域结构 | 第73-79页 |
| ·X射线吸收近边结构(XANES) | 第73-74页 |
| ·振荡函数 | 第74-75页 |
| ·径向分布函数 | 第75-76页 |
| ·K空间拟合结果及结构参数 | 第76-78页 |
| ·小结 | 第78-79页 |
| 第四章 含Ti催化剂掺杂的NaH/Al粉末加氢前后的相结构及相组成 | 第79-88页 |
| ·实验方法 | 第79-82页 |
| ·Rietveld精修的基本思想 | 第79页 |
| ·Rietveld精修策略 | 第79-81页 |
| ·Rietveld精修步骤 | 第81-82页 |
| ·样品制备 | 第82页 |
| ·TiF_3催化NaH/Al粉末在不同加氢温度下产物的相结构及相组成 | 第82-85页 |
| ·Ti(OBu~n)_4催化NaH/Al粉末在不同加氢温度下产物的相结构及相组成 | 第85-87页 |
| ·小结 | 第87-88页 |
| 第五章 含Ti催化剂掺杂的NaH/Al粉末加氢前后的热力学分析 | 第88-98页 |
| ·DSC-TG测试过程及测量参数 | 第88-89页 |
| ·纯NaAlH_4的DSC-TG分析 | 第89-90页 |
| ·掺杂TiF_3的NaH/Al粉末氢化前后样品的DSC-TG分析 | 第90-92页 |
| ·掺杂Ti(OBu~n)_4的NaH/Al粉末氢化前后样品的DSC-TG分析 | 第92-95页 |
| ·掺杂TiF_3和Ti(OBu~n)_4样品在氢化前后DSC-TG曲线对比 | 第95-97页 |
| ·小结 | 第97-98页 |
| 第六章 含Ti催化剂催化NaH/Al加氢过程的机理及模型 | 第98-103页 |
| ·氢在Al(001)表面的吸附和解离,扩散的第一性原理研究 | 第98-101页 |
| ·计算框架、模型和方法 | 第98-99页 |
| ·氢在纯Al(001)表面和Ti掺杂的Al(001)表面的吸附和解离过程 | 第99-101页 |
| ·含Ti催化剂催化NaH/Al粉末加氢过程的催化机理及其模型 | 第101-103页 |
| 第七章 镁基合金薄膜氢致光电性能的研究 | 第103-119页 |
| ·氢分子在纯Mg(0001)表面以及Pd,Ti和Ni掺杂的Mg(0001)表面的吸附、解离和扩散 | 第103-107页 |
| ·理论计算模型及方法 | 第103-104页 |
| ·氢分子在纯Mg(0001)表面的吸附和扩散 | 第104-106页 |
| ·Mg(0001)表面吸附能 | 第104页 |
| ·H_2分子的解离 | 第104-105页 |
| ·H原子的体内扩散 | 第105-106页 |
| ·氢分子在Pd、Ti和Ni掺杂的Mg(0001)表面的吸附和解离 | 第106-107页 |
| ·小结 | 第107页 |
| ·Ti或Ni催化镁薄膜的光电性能变化 | 第107-112页 |
| ·实验方法 | 第107-109页 |
| ·真空镀膜 | 第107-108页 |
| ·薄膜样品的脱/加氢实验 | 第108页 |
| ·光电学性能测试 | 第108-109页 |
| ·Ti或Ni催化镁薄膜光电性能变化 | 第109-112页 |
| ·Ni催化LaMg_2Ni合金薄膜的光电性能变化 | 第112-119页 |
| ·引言 | 第112页 |
| ·样品制备及测试 | 第112-113页 |
| ·光电性能变化 | 第113-115页 |
| ·LaMg_2Ni合金薄膜表面形貌 | 第115-117页 |
| ·相结构变化 | 第117页 |
| ·小结 | 第117-119页 |
| 第八章 结束语 | 第119-122页 |
| ·研究工作总结及结论 | 第119-121页 |
| ·研究工作展望 | 第121-122页 |
| 参考文献 | 第122-136页 |
| 博士期间的论文、专利及奖励情况 | 第136-140页 |
| 致谢 | 第140-141页 |
