| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 自旋电子学概论 | 第7-11页 |
| §1.1 自旋电子学的发展历程 | 第7-9页 |
| §1.2 自旋电子学的应用和发展 | 第9-10页 |
| §1.3 本论文的选题和研究内容 | 第10-11页 |
| 第二章 样品的制备及其测量 | 第11-24页 |
| §2.1 样品的制备 | 第11-14页 |
| ·直流磁控溅射法 | 第11-12页 |
| ·射频磁控溅射法 | 第12-14页 |
| §2.2 膜厚的测量 | 第14-18页 |
| ·双光束干涉显微镜测厚法 | 第14-15页 |
| ·α台阶仪法 | 第15-16页 |
| ·X射线衍射 | 第16-18页 |
| §2.3 振动样品磁强计 | 第18-19页 |
| §2.4 成分的测定——X射线光电子能谱分析(XPS) | 第19-20页 |
| §2.5 铁磁共振 | 第20-24页 |
| 第三章 多晶NiFe/FeMn双层膜中各向同性共振场的移动和转动各向异性间的联系 | 第24-34页 |
| §3.1 概论 | 第24-26页 |
| §3.2 交换偏置 | 第26-28页 |
| §3.3 铁磁共振 | 第28-29页 |
| §3.4 拟合计算 | 第29-31页 |
| §3.5 转动各向异性的实验证明 | 第31-32页 |
| §3.6 热激发模型 | 第32-33页 |
| §3.7 小结 | 第33-34页 |
| 第四章 磁锻炼效应的研究 | 第34-39页 |
| §4.1 交换偏置的磁锻炼效应 | 第34-36页 |
| §4.2 交换偏置的磁锻炼效应与各向同性的移动间的联系 | 第36-38页 |
| §4.3 小结 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-44页 |
| 致谢 | 第44-45页 |
