| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 缩写、符号清单、术语表 | 第11-16页 |
| 第1章绪论 | 第16-24页 |
| 1.1活性氧 | 第16-20页 |
| 1.1.1活性氧产生,作用及危害 | 第16-17页 |
| 1.1.2检测细菌产生活性氧的意义 | 第17-18页 |
| 1.1.3活性氧的检测方法 | 第18-20页 |
| 1.2电化学法检测活性氧 | 第20-22页 |
| 1.2.1化学修饰电极 | 第20-21页 |
| 1.2.2化学修饰电极检测过氧化氢 | 第21页 |
| 1.2.3化学修饰电极检测羟基自由基 | 第21-22页 |
| 1.3论文主要研究内容 | 第22-24页 |
| 第2章基于SWCNT修饰电极的构建及其羟基自由基的测定 | 第24-40页 |
| 2.1实验内容 | 第25-26页 |
| 2.1.1实验试剂 | 第25页 |
| 2.1.2实验仪器 | 第25页 |
| 2.1.3制备SWCNT/GCE修饰电极 | 第25-26页 |
| 2.1.4电化学检测方法 | 第26页 |
| 2.2结果与讨论 | 第26-38页 |
| 2.2.1SWCNT/GCE修饰电极检测·OH的可能性 | 第26-28页 |
| 2.2.2修饰材料的表征 | 第28页 |
| 2.2.3不同修饰电极上的电化学行为 | 第28-29页 |
| 2.2.4不同修饰电极的阻抗研究 | 第29-30页 |
| 2.2.5电极有效面积的测定 | 第30-31页 |
| 2.2.6修饰电极的稳定性研究 | 第31-32页 |
| 2.2.73,4-DHBA在SWCNT/GCE修饰电极扫描速度的研究 | 第32-33页 |
| 2.2.8溶液pH对3,4-DHBA的影响 | 第33-34页 |
| 2.2.9SWCNT含量的优化 | 第34-35页 |
| 2.2.104-HBA浓度的优化 | 第35页 |
| 2.2.11标准曲线和检出限 | 第35-38页 |
| 2.2.12干扰实验 | 第38页 |
| 2.3本章小结 | 第38-40页 |
| 第3章基于CuFe2O4-MWCNT-CS修饰电极的构建及其对过氧化氢的测定 | 第40-55页 |
| 3.1实验内容 | 第41-43页 |
| 3.1.1实验试剂 | 第41-42页 |
| 3.1.2实验仪器 | 第42页 |
| 3.1.3制备CuFe2O4-MWCNT纳米复合材料 | 第42-43页 |
| 3.1.4制备CuFe2O4-MWCNT-CS修饰电极 | 第43页 |
| 3.1.5电化学检测方法 | 第43页 |
| 3.2结果与讨论 | 第43-54页 |
| 3.2.1修饰材料的表征 | 第43-45页 |
| 3.2.2不同修饰电极上的电化学行为 | 第45-47页 |
| 3.2.3不同修饰电极的阻抗研究 | 第47页 |
| 3.2.4电极有效面积的测定 | 第47-48页 |
| 3.2.5CuFe2O4-MWCNT-CS修饰电极扫描速度的研究 | 第48-49页 |
| 3.2.6溶液pH对过氧化氢的影响 | 第49-50页 |
| 3.2.7CuFe2O4-MWCNT含量的优化 | 第50-51页 |
| 3.2.8标准曲线的研究 | 第51-52页 |
| 3.2.9干扰试验 | 第52-53页 |
| 3.2.10修饰电极的稳定性及重现性研究 | 第53-54页 |
| 3.3本章小结 | 第54-55页 |
| 第4章基于CuO-SWCNT-PDDA修饰电极的构建及其对过氧化氢的测定 | 第55-72页 |
| 4.1实验内容 | 第56-58页 |
| 4.1.1实验试剂 | 第56页 |
| 4.1.2实验仪器 | 第56-57页 |
| 4.1.3制备CuO-SWCNT纳米复合材料 | 第57页 |
| 4.1.4制备CuO-SWCNT-PDDA修饰电极 | 第57-58页 |
| 4.1.5电化学检测方法 | 第58页 |
| 4.2结果与讨论 | 第58-71页 |
| 4.2.1修饰材料的表征 | 第58-60页 |
| 4.2.2不同修饰电极上的电化学行为 | 第60-62页 |
| 4.2.3不同修饰电极的阻抗研究 | 第62-63页 |
| 4.2.4电极有效面积的测定 | 第63-64页 |
| 4.2.5修饰电极的稳定性研究 | 第64页 |
| 4.2.6过氧化氢在CuO-SWCNT-PDDA/GCE修饰电极扫描速度的研究 | 第64-65页 |
| 4.2.7溶液pH对过氧化氢的影响 | 第65-66页 |
| 4.2.8PDDA含量的优化 | 第66-67页 |
| 4.2.9CuO-SWCNT滴涂含量的优化 | 第67-68页 |
| 4.2.10标准曲线和检出限 | 第68-70页 |
| 4.2.11干扰实验 | 第70-71页 |
| 4.3本章小结 | 第71-72页 |
| 第5章细菌产过羟基自由基和过氧化氢的初探 | 第72-78页 |
| 5.1细菌产·OH和H2O2含量的检测 | 第72-77页 |
| 5.1.1细菌的培养及电化学检测细菌中·OH和H2O2含量 | 第72-73页 |
| 5.1.2SWCNT/GCE检测细菌中·OH含量 | 第73-74页 |
| 5.1.3CuFe2O4-MWCNT-CS/GCE检测细菌中H2O2含量 | 第74-75页 |
| 5.1.4CuO-SWCNT-PDDA/GCE检测细菌中H2O2含量 | 第75-77页 |
| 5.2本章小结 | 第77-78页 |
| 第6章结论与展望 | 第78-81页 |
| 6.1结论 | 第78-79页 |
| 6.2创新点 | 第79-80页 |
| 6.3展望 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
