| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 前言 | 第9-10页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-25页 |
| ·气相沉积制备薄膜技术简介 | 第10-11页 |
| ·化学气相沉积技术 | 第10页 |
| ·物理气相沉积技术 | 第10页 |
| ·离子镀技术 | 第10-11页 |
| ·气相沉积法的应用 | 第11页 |
| ·多弧离子镀技术 | 第11-15页 |
| ·多弧离子镀原理 | 第11-13页 |
| ·多弧离子镀膜工艺参数对TiN 薄膜性能的影响 | 第13-14页 |
| ·多弧离子镀技术的应用 | 第14-15页 |
| ·气相沉积薄膜的生长及微观结构 | 第15-18页 |
| ·薄膜形核生长理论 | 第15-17页 |
| ·薄膜的微观结构 | 第17-18页 |
| ·TiN 薄膜的研究 | 第18-22页 |
| ·TiN 薄膜性能影响因素的研究 | 第18-20页 |
| ·TiN 薄膜的研究进展 | 第20-22页 |
| ·铝合金表面制备TiN 薄膜研究意义 | 第22页 |
| ·铝合金表面制备硬质薄膜研究现状 | 第22-23页 |
| ·本研究的内容及执行路线 | 第23-25页 |
| ·研究的主要内容 | 第23-24页 |
| ·研究的技术路线 | 第24-25页 |
| 第二章 实验设备及方法 | 第25-33页 |
| ·实验材料 | 第25页 |
| ·实验设备 | 第25-26页 |
| ·镀膜设备简介 | 第26页 |
| ·实验前基体材料的处理 | 第26-28页 |
| ·试样的热处理 | 第26-27页 |
| ·试样表面净化处理 | 第27-28页 |
| ·实验流程 | 第28-29页 |
| ·烘烤的作用 | 第28页 |
| ·辉光清洗原理及作用 | 第28页 |
| ·弧光清洗原理及作用 | 第28-29页 |
| ·TiN 薄膜沉积工艺的设计及研究方法 | 第29页 |
| ·性能的检测 | 第29-33页 |
| ·薄膜粘着性的测定 | 第29-31页 |
| ·薄膜显微硬度的测定 | 第31页 |
| ·试样的形貌、显微结构的观测及薄膜的物相分析 | 第31页 |
| ·耐磨性试验 | 第31-32页 |
| ·抗高温氧化性试验 | 第32-33页 |
| 第三章 ZL109 铝合金表面多弧离子镀TiN 薄膜的工艺研究 | 第33-43页 |
| ·正交实验 | 第33-39页 |
| ·工艺因素及水平的确定 | 第33-34页 |
| ·正交试验表及试验工艺 | 第34-35页 |
| ·正交实验结果 | 第35-36页 |
| ·正交实验结果分析 | 第36-39页 |
| ·正交试验工艺优化 | 第39页 |
| ·沉积温度对ZL109 铝合金表面镀TiN 薄膜的的影响 | 第39-41页 |
| ·沉积偏压的影响 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 ZL109 铝合金表面制备的TiN 薄膜的物相及形貌分析 | 第43-48页 |
| ·ZL109 铝合金表面沉积TiN 薄膜截面形貌分析 | 第43-44页 |
| ·ZL109 铝合金表面沉积TiN 薄膜表面形貌分析 | 第44-46页 |
| ·ZL109 铝合金表面沉积TiN 薄膜X 衍射相分析 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第五章 ZL109 铝合金表面多弧离子镀TiN 薄膜的性能研究 | 第48-59页 |
| ·耐磨性研究 | 第48-53页 |
| ·ZL109 铝合金表面沉积TiN 薄膜的磨痕宽度影响 | 第48-49页 |
| ·ZL109 铝合金表面沉积TiN 薄膜的磨痕形貌影响 | 第49-51页 |
| ·ZL109 铝合金表面沉积TiN 薄膜的比磨损率影响 | 第51-52页 |
| ·ZL109 铝合金表面沉积TiN 薄膜的摩擦系数影响 | 第52页 |
| ·磨损机理分析 | 第52-53页 |
| ·抗高温氧化性能研究 | 第53-57页 |
| ·高温氧化后试样的增重 | 第54页 |
| ·高温氧化后的试样的表面形貌 | 第54-56页 |
| ·高温氧化后试样的物相 | 第56页 |
| ·在ZL109 表面镀TiN 薄膜氧化机理分析 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第六章 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 附录 | 第65页 |
