摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第15-36页 |
1.1 引言 | 第15-16页 |
1.2 甲烷的应用与挑战 | 第16-18页 |
1.3 甲烷选择性氧化的研究现状 | 第18-21页 |
1.3.1 甲烷均相催化氧化 | 第19-20页 |
1.3.2 甲烷多相催化氧化 | 第20-21页 |
1.4 甲烷选择性氧化固体催化剂 | 第21-25页 |
1.4.1 钼基催化剂 | 第22-23页 |
1.4.2 钒基催化剂 | 第23-24页 |
1.4.3 其他金属催化剂 | 第24-25页 |
1.5 硼材料在甲烷选择氧化反应中的潜在应用 | 第25-27页 |
1.6 本文选题依据及研究内容 | 第27-30页 |
参考文献 | 第30-36页 |
第二章 实验部分 | 第36-44页 |
2.1 实验原料 | 第36-38页 |
2.1.1 实验试剂 | 第36页 |
2.1.2 实验气体 | 第36-37页 |
2.1.3 实验仪器 | 第37-38页 |
2.2 催化剂制备 | 第38页 |
2.2.1 B_2O_3催化剂的制备 | 第38页 |
2.2.2 h-BN催化剂的制备 | 第38页 |
2.2.3 B-ZSM-5的制备 | 第38页 |
2.3 催化剂的活性评价 | 第38-41页 |
2.3.1 催化剂评价试验 | 第38-40页 |
2.3.2 催化剂评价结果分析 | 第40-41页 |
2.4 催化剂表征 | 第41-43页 |
2.4.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第41页 |
2.4.2 N_2吸脱附测试(BET) | 第41-42页 |
2.4.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第42页 |
2.4.4 核磁共振(NMR) | 第42页 |
2.4.5 透射电子显微镜(TEM) | 第42页 |
2.4.6 扫描电子显微镜(SEM) | 第42页 |
2.4.7 质谱在线跟踪(MS) | 第42-43页 |
参考文献 | 第43-44页 |
第三章 B_2O_3催化剂对甲烷选择性催化氧化反应的研究 | 第44-61页 |
3.1 引言 | 第44页 |
3.2 B_2_O3催化剂催化甲烷选择性氧化性能 | 第44-51页 |
3.2.1 载体影响 | 第44-47页 |
3.2.2 B_2O_3负载量影响 | 第47-48页 |
3.2.3 反应温度的影响 | 第48-49页 |
3.2.4 反应气流量的影响 | 第49-50页 |
3.2.5 B_2O_3催化剂的抗深度氧化能力 | 第50-51页 |
3.3 活性中心 | 第51-54页 |
3.3.1 催化活性中心 | 第51-54页 |
3.4 催化剂表征 | 第54-58页 |
3.4.1 核磁共振(NMR) | 第54页 |
3.4.2 X射线光电子能谱(XPS) | 第54-55页 |
3.4.3 X射线粉末衍射(XRD) | 第55-56页 |
3.4.4 N_2吸脱附测试(BET) | 第56-58页 |
3.4.5 透射电镜(TEM) | 第58页 |
3.5 本章小结 | 第58-60页 |
参考文献 | 第60-61页 |
第四章 B_2O_3催化剂上甲烷选择性氧化反应机理的探究 | 第61-70页 |
4.1 反应路径的探索 | 第61-64页 |
4.2 产物对反应体系的影响 | 第64-65页 |
4.2.1 H_2O对甲烷氧化速率和选择性的影响 | 第64-65页 |
4.2.2 CH_3OH对甲烷氧化速率的影响 | 第65页 |
4.3 甲烷选择性氧化反应动力学 | 第65-68页 |
4.4 本章小结 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-70页 |
第五章 六方氮化硼催化甲烷选择性氧化反应的研究 | 第70-83页 |
5.1 引言 | 第70-71页 |
5.2 h-BN催化剂对甲烷选择性氧化反应性能的研究 | 第71-76页 |
5.2.1 反应温度的影响 | 第71-73页 |
5.2.2 空速对反应活性和选择性的影响 | 第73-74页 |
5.2.3 O_2/CH_4比例对产物分布的影响 | 第74-75页 |
5.2.4 h-BN催化剂的稳定性 | 第75-76页 |
5.3 高比表面积h-BN的催化活性 | 第76-78页 |
5.4 h-BN催化的结构表征 | 第78-81页 |
5.4.1 N_2吸脱附测试(BET) | 第78-79页 |
5.4.2 X射线粉末衍射(XRD) | 第79-80页 |
5.4.3 扫描电镜(SEM) | 第80-81页 |
5.5 本章小结 | 第81-82页 |
参考文献 | 第82-83页 |
第六章 结论与展望 | 第83-85页 |
6.1 结论 | 第83-84页 |
6.2 展望 | 第84-85页 |
硕士期间发表论文及专利情况 | 第85-86页 |
致谢 | 第86-87页 |