| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 研究背景 | 第10页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第10-15页 |
| 1.2.1 低损耗氮化硅光波导研究现状 | 第10-12页 |
| 1.2.2 氮化硅可重构微波光子滤波器研究现状 | 第12-15页 |
| 1.3 论文的主要内容 | 第15-18页 |
| 第二章 可重构光子滤波器的结构与理论模型 | 第18-30页 |
| 2.1 可调谐微环谐振腔光学滤波器理论模型 | 第18-28页 |
| 2.1.1 马赫-曾德尔(MZI)型耦合器 | 第18-20页 |
| 2.1.2 马赫-曾德尔(MZI)耦合微环谐振腔 | 第20-25页 |
| 2.1.3 双环级联马赫-曾德尔(MZI)耦合微环谐振腔 | 第25-27页 |
| 2.1.4 微环耦合非对称MZI干涉器型滤波器 | 第27-28页 |
| 2.2 基于光学单边带调制的可重构微波光子滤波器原理 | 第28-30页 |
| 第三章 厚度为200nm的低损耗氮化硅光波导的设计、制备与测试 | 第30-46页 |
| 3.1 厚度为200nm的低损耗氮化硅光波导的设计 | 第30-36页 |
| 3.1.1 光波导的结构和尺寸设计 | 第30-32页 |
| 3.1.2 弯曲波导的弯曲半径 | 第32-33页 |
| 3.1.3 耦合间距和耦合长度 | 第33-34页 |
| 3.1.4 模式匹配分析 | 第34-35页 |
| 3.1.5 掩膜版设计 | 第35-36页 |
| 3.2 厚度为200nm的低损耗氮化硅光波导的制备 | 第36-40页 |
| 3.3 厚度为200nm的低损耗氮化硅光波导的测试 | 第40-46页 |
| 3.3.1 截断法 | 第40-42页 |
| 3.3.2 微环法 | 第42-46页 |
| 第四章 可重构微波光子滤波器的设计、制备与测试 | 第46-62页 |
| 4.1 可调谐光子滤波器的设计 | 第46-50页 |
| 4.1.1 2×2多模干涉耦合器 | 第46-48页 |
| 4.1.2 用于热光调谐的电极设计 | 第48-50页 |
| 4.1.3 掩膜版设计 | 第50页 |
| 4.2 可调谐光子滤波器的制备 | 第50-52页 |
| 4.3 可调谐光子滤波器的测试 | 第52-57页 |
| 4.3.1 2×2多模干涉耦合器(MMI)的测试与分析 | 第52-53页 |
| 4.3.2 马赫-曾德尔(MZI)耦合微环谐振器的测试与分析 | 第53-56页 |
| 4.3.3 微环耦合非对称MZI干涉器型滤波器的测试与分析 | 第56-57页 |
| 4.4 基于光学单边带调制的微波光子滤波器的测试 | 第57-62页 |
| 第五章 总结与展望 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 作者简介 | 第70页 |
