| 摘要 | 第11-13页 |
| ABSTRACT | 第13-14页 |
| 第一章 绪论 | 第15-31页 |
| 1.1 空间反射镜的研究背景 | 第15-17页 |
| 1.2 空间反射镜材料的发展历程 | 第17-18页 |
| 1.3 SiC及其复合材料反射镜的制备及研究现状 | 第18-24页 |
| 1.3.1 SiC反射镜材料的制备及研究现状 | 第18-21页 |
| 1.3.2 C/SiC反射镜材料的制备及研究现状 | 第21-24页 |
| 1.4 C/SiC反射镜光学改性涂层的制备及研究现状 | 第24-27页 |
| 1.4.1 C/SiC反射镜光学改性涂层的制备 | 第24-25页 |
| 1.4.2 C/SiC反射镜光学改性涂层的国内外研究现状 | 第25-27页 |
| 1.5 凝胶注模成型工艺研究进展 | 第27-30页 |
| 1.5.1 凝胶注模成型的工艺流程及研究现状 | 第28-29页 |
| 1.5.2 凝胶注模成型制备SiC材料存在的问题 | 第29-30页 |
| 1.6 论文选题依据与研究内容 | 第30-31页 |
| 1.6.1 选题依据 | 第30页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第30-31页 |
| 第二章 实验与研究方法 | 第31-37页 |
| 2.1 实验过程 | 第31-33页 |
| 2.2 实验原料及设备 | 第33-34页 |
| 2.3 分析测试与性能表征 | 第34-37页 |
| 第三章 凝胶注模SiC基预涂层成型工艺研究 | 第37-59页 |
| 3.1 高固含量低粘度浆料的配制 | 第37-43页 |
| 3.1.1 单体含量对浆料粘度的影响 | 第37-38页 |
| 3.1.2 炭黑含量及其分散剂用量对浆料粘度的影响 | 第38-39页 |
| 3.1.3 SiC颗粒级配及其分散剂用量对浆料粘度的影响 | 第39-42页 |
| 3.1.4 固含量对浆料粘度的影响 | 第42-43页 |
| 3.2 凝胶反应工艺优化 | 第43-47页 |
| 3.2.1 炭黑对丙烯酰胺体系凝胶反应的影响 | 第43-45页 |
| 3.2.2 AIBA的用量及反应温度对凝胶反应的影响 | 第45-47页 |
| 3.3 凝胶素坯的干燥行为 | 第47-52页 |
| 3.3.1 凝胶素坯的干燥机制 | 第47-48页 |
| 3.3.2 单体含量对素坯干燥收缩的影响 | 第48-49页 |
| 3.3.3 颗粒级配对素坯干燥收缩的影响 | 第49-50页 |
| 3.3.4 炭黑含量对素坯干燥收缩的影响 | 第50-51页 |
| 3.3.5 固含量对素坯干燥收缩的影响 | 第51-52页 |
| 3.4 凝胶素坯的密度与力学性能 | 第52-58页 |
| 3.4.1 单体含量对素坯密度与力学性能的影响 | 第52-54页 |
| 3.4.2 交联剂含量对素坯力学性能的影响 | 第54-55页 |
| 3.4.3 固含量对素坯密度与力学性能的影响 | 第55-57页 |
| 3.4.4 炭黑含量对素坯密度的影响 | 第57-58页 |
| 3.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 气相渗硅烧结SiC基涂层的组成、结构及性能研究 | 第59-83页 |
| 4.1 SiC基材料的密度、组成及结构研究 | 第59-71页 |
| 4.1.1 气相渗硅反应机理 | 第59-61页 |
| 4.1.2 硅用量对SiC基材料的组成与结构的影响 | 第61-64页 |
| 4.1.3 素坯成分组成对SiC基材料密度、组成及结构的影响 | 第64-68页 |
| 4.1.4 素坯结构对SiC基材料密度、组成及结构的影响 | 第68-71页 |
| 4.2 SiC基材料的力学性能研究 | 第71-77页 |
| 4.2.1 素坯成分组成对SiC基材料力学性能的影响 | 第71-73页 |
| 4.2.2 素坯结构对SiC基材料密度及力学性能的影响 | 第73-74页 |
| 4.2.3 涂层与基体的结合性能分析 | 第74-77页 |
| 4.3 SiC基涂层的热物理性能研究 | 第77-81页 |
| 4.3.1 素坯成分组成对SiC基材料热膨胀系数的影响 | 第78-79页 |
| 4.3.2 素坯成分组成对SiC基材料热导率的影响 | 第79页 |
| 4.3.3 素坯成分组成对SiC基材料抗热震性能的影响 | 第79-81页 |
| 4.4 本章小结 | 第81-83页 |
| 第五章 Si/SiC光学改性涂层的制备 | 第83-90页 |
| 5.1 Si/SiC块体陶瓷的制备 | 第83-84页 |
| 5.2 Si/SiC涂覆C/SiC反射镜制备工艺 | 第84-87页 |
| 5.2.1 一步法渗硅烧结工艺 | 第84-86页 |
| 5.2.2 二步法渗硅烧结工艺 | 第86-87页 |
| 5.3 Si/SiC光学涂层改性C/SiC反射镜的制备 | 第87-89页 |
| 5.4 本章小结 | 第89-90页 |
| 结束语 | 第90-92页 |
| 致谢 | 第92-94页 |
| 参考文献 | 第94-99页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第99-100页 |
