| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 三维电路制造技术 | 第8-11页 |
| 1.1.1 三维电路制造技术的主要方式 | 第8-11页 |
| 1.2 激光直接成型技术 | 第11-14页 |
| 1.2.1 激光直接成型技术的优势 | 第13-14页 |
| 1.2.2 激光直接成型技术的研究现状 | 第14页 |
| 1.3 本文的研究意义 | 第14-17页 |
| 第二章 激光直接成型技术的理论研究和实验基础 | 第17-26页 |
| 2.1 激光与材料的相互作用理论 | 第17-21页 |
| 2.1.1 激光对聚合物材料的作用 | 第18-19页 |
| 2.1.2 金属材料对激光的吸收机制 | 第19-21页 |
| 2.2 激光直接成型技术的工艺步骤 | 第21-22页 |
| 2.3 激光加工设备 | 第22-25页 |
| 2.3.1 光源的选择 | 第22页 |
| 2.3.2 激光加工系统的整体结构 | 第22-25页 |
| 2.4 本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 激光敏感添加剂的开发 | 第26-34页 |
| 3.1 现有激光敏感添加剂的种类 | 第26-27页 |
| 3.2 激光敏感添加剂的种类对聚合物改性效果的影响 | 第27-31页 |
| 3.2.1 实验原料及样品制备 | 第28页 |
| 3.2.2 激光刻蚀方法 | 第28页 |
| 3.2.3 化学镀 | 第28页 |
| 3.2.4 性能表征 | 第28-29页 |
| 3.2.5 实验结果及分析 | 第29-31页 |
| 3.3 激光敏感添加剂的粒径对聚合物改性效果的影响 | 第31-33页 |
| 3.3.1 实验原料及样品制备 | 第31页 |
| 3.3.2 实验结果及分析 | 第31-33页 |
| 3.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 第四章 激光直接成型材料的开发 | 第34-46页 |
| 4.1 基体材料的选定—聚碳酸酯 | 第34-35页 |
| 4.2 实验部分 | 第35-37页 |
| 4.2.1 实验原料 | 第35页 |
| 4.2.2 实验主要设备 | 第35页 |
| 4.2.3 实验过程 | 第35-36页 |
| 4.2.4 实验测试 | 第36-37页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第37-45页 |
| 4.3.1 扫描电子显微镜 | 第37-38页 |
| 4.3.2 SEM-EDS | 第38-41页 |
| 4.3.3 X射线光电子能谱 | 第41-43页 |
| 4.3.4 镀层性能 | 第43-44页 |
| 4.3.5 成本对比 | 第44-45页 |
| 4.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 激光直接成型材料的激光表面处理 | 第46-58页 |
| 5.1 激光参数对激光直接成型材料的表面处理 | 第46-47页 |
| 5.2 激光的工艺参数对材料表面改性效果的影响 | 第47-56页 |
| 5.2.1 输入电流对材料表面改性效果的影响 | 第47-49页 |
| 5.2.2 脉冲频率对表面粗糙度的影响 | 第49-51页 |
| 5.2.3 扫描速度对表面粗糙度的影响 | 第51-54页 |
| 5.2.4 填充线间距对表面粗糙度的影响 | 第54-56页 |
| 5.3 系统的表面改性处理精度及稳定性分析 | 第56页 |
| 5.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 第六章 结论与展望 | 第58-60页 |
| 6.1 本文结论 | 第58-59页 |
| 6.2 前景展望 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 作者简介 | 第66页 |