低压化学气相沉积设备控制系统的设计与实现
| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 1 绪论 | 第14-19页 |
| 1.1 研究背景和意义 | 第14-16页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第16页 |
| 1.3 论文研究的目标及主要内容 | 第16-17页 |
| 1.4 论文的组织结构及其章节编排 | 第17-19页 |
| 2 LPCVD设备控制系统相关技术综述 | 第19-29页 |
| 2.1 DCOM技术 | 第19-20页 |
| 2.1.1 DCOM概述 | 第19-20页 |
| 2.1.2 用ATL实现DCOM组件 | 第20页 |
| 2.2 WCF技术 | 第20-23页 |
| 2.2.1 WCF概述 | 第20-22页 |
| 2.2.2 构建和连接WCF服务 | 第22-23页 |
| 2.3 WPF技术 | 第23-28页 |
| 2.3.1 WPF概述 | 第23-25页 |
| 2.3.2 XAML简介 | 第25页 |
| 2.3.3 WPF的自定义控件 | 第25-26页 |
| 2.3.4 WPF动画 | 第26-27页 |
| 2.3.5 WPF数据绑定 | 第27-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 3 LPCVD设备控制系统需求分析与架构设计 | 第29-41页 |
| 3.1 LPCVD设备控制过程分析 | 第29-32页 |
| 3.1.1 LPCVD设备概述 | 第29-30页 |
| 3.1.2 LPCVD设备控制过程 | 第30-32页 |
| 3.2 LPCVD设备控制系统需求分析 | 第32-34页 |
| 3.2.1 功能性需求 | 第32-33页 |
| 3.2.2 非功能性需求 | 第33-34页 |
| 3.3 LPCVD设备控制系统的架构设计 | 第34-40页 |
| 3.3.1 技术架构视图 | 第34-35页 |
| 3.3.2 逻辑架构视图 | 第35-39页 |
| 3.3.3 部署架构视图 | 第39-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 4 LPCVD设备控制系统的详细设计与实现 | 第41-74页 |
| 4.1 服务器端软件的详细设计与实现 | 第41-65页 |
| 4.1.1 实时控制服务的详细设计与实现 | 第41-54页 |
| 4.1.2 WCF服务的详细设计与实现 | 第54-65页 |
| 4.2 客户端软件的详细设计与实现 | 第65-73页 |
| 4.2.1 客户端调用WCF服务的详细设计与实现 | 第65-67页 |
| 4.2.2 客户端功能模块的详细设计与实现 | 第67-73页 |
| 4.3 本章小结 | 第73-74页 |
| 5 LPCVD设备控制系统的测试与验证 | 第74-86页 |
| 5.1 LPCVD设备控制系统的测试 | 第74-79页 |
| 5.1.1 测试环境 | 第74页 |
| 5.1.2 功能测试 | 第74-77页 |
| 5.1.3 性能测试 | 第77-79页 |
| 5.2 LPCVD设备控制系统的应用 | 第79-85页 |
| 5.2.1 应用概述 | 第79页 |
| 5.2.2 运行实例 | 第79-84页 |
| 5.2.3 系统应用效果及分析 | 第84-85页 |
| 5.3 本章小结 | 第85-86页 |
| 6 总结与展望 | 第86-88页 |
| 6.1 本文工作总结 | 第86-87页 |
| 6.2 下一步的工作 | 第87-88页 |
| 参考文献 | 第88-90页 |
| 7 致谢 | 第90-91页 |
| 作者攻读学位期间发表的论文 | 第91页 |
