| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 课题背景及研究目的 | 第11页 |
| 1.2 ZnO的基本性质及晶体结构 | 第11-13页 |
| 1.2.1 ZnO的基本性质 | 第11-12页 |
| 1.2.2 ZnO的晶体结构 | 第12-13页 |
| 1.3 ZnO薄膜的研究进展 | 第13-18页 |
| 1.3.1 ZnO薄膜的制备方法 | 第13-17页 |
| 1.3.2 ZnO薄膜的形貌及相关性质研究 | 第17-18页 |
| 1.4 本课题的研究思路及内容 | 第18-19页 |
| 第2章 实验方法 | 第19-27页 |
| 2.1 实验材料 | 第19-20页 |
| 2.1.1 实验药品 | 第19页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第19-20页 |
| 2.2 薄膜的制备工艺 | 第20-21页 |
| 2.3 薄膜表征 | 第21-27页 |
| 2.3.1 紫外-可见光光谱 (UV-Vis) | 第21-22页 |
| 2.3.2 荧光光谱 (PL) | 第22-23页 |
| 2.3.3 红外光谱 (IR) | 第23页 |
| 2.3.4 X射线衍射 (XRD) | 第23-24页 |
| 2.3.5 原子力显微镜 (AFM) | 第24-25页 |
| 2.3.6 透射电子显微镜 (TEM) | 第25页 |
| 2.3.7 扫描电子显微镜 (SEM) | 第25-27页 |
| 第3章 C6H12N4体系下制备ZnO薄膜及性能研究 | 第27-61页 |
| 3.1 在Ⅰ缓冲层上制备ZnO薄膜及对其形貌与性能的研究 | 第27-45页 |
| 3.1.1 生长时间对ZnO薄膜形貌及性能的影响 | 第27-32页 |
| 3.1.2 生长液浓度对ZnO薄膜形貌及性能的影响 | 第32-38页 |
| 3.1.3 生长温度对ZnO薄膜形貌及性能的影响 | 第38-45页 |
| 3.2 Ⅱ缓冲层上制备ZnO薄膜及温度对其形貌与性能的影响 | 第45-53页 |
| 3.2.1 生长温度对ZnO薄膜形貌及性能的影响 | 第45-51页 |
| 3.2.2 Ⅰ缓冲层与Ⅱ缓冲层上制备的ZnO薄膜的形貌与性能对比 | 第51-53页 |
| 3.3 柔性沉底上制备ZnO薄膜及其形貌与性能的研究 | 第53-56页 |
| 3.3.1 XRD分析 | 第53-54页 |
| 3.3.2 SEM分析 | 第54-56页 |
| 3.4 有机缓冲层上制备ZnO薄膜及其形貌与性能的研究 | 第56-59页 |
| 3.4.1 XRD对比分析 | 第56-57页 |
| 3.4.2 UV-Vis对比分析 | 第57-58页 |
| 3.4.3 PL对比分析 | 第58页 |
| 3.4.4 SEM对比分析 | 第58-59页 |
| 3.5 本章小结 | 第59-61页 |
| 第4章 (NH2)2CO体系下制备ZnO薄膜及性能研究 | 第61-78页 |
| 4.1 生长液浓度对ZNO薄膜形貌及性能的影响 | 第61-67页 |
| 4.1.1 XRD分析 | 第61-62页 |
| 4.1.2 UV-Vis分析 | 第62-63页 |
| 4.1.3 PL分析 | 第63-64页 |
| 4.1.4 考察高温退火影响 | 第64-65页 |
| 4.1.5 TEM分析 | 第65-66页 |
| 4.1.6 光催化性能分析 | 第66-67页 |
| 4.2 生长温度对ZnO薄膜形貌及性能的影响 | 第67-72页 |
| 4.2.1 XRD分析 | 第67-69页 |
| 4.2.2 UV-Vis分析 | 第69-70页 |
| 4.2.3 PL分析 | 第70页 |
| 4.2.4 TEM分析 | 第70-71页 |
| 4.2.5 光催化性能分析 | 第71-72页 |
| 4.3 生长时间对ZnO薄膜形貌及性能的影响 | 第72-74页 |
| 4.3.1 XRD分析 | 第72-73页 |
| 4.3.2 UV-Vis分析 | 第73-74页 |
| 4.4 尿素体系与六次亚甲基四胺体系对比分析 | 第74-76页 |
| 4.4.1 XRD对比分析 | 第74-75页 |
| 4.4.2 UV-Vis对比分析 | 第75页 |
| 4.4.3 PL对比分析 | 第75-76页 |
| 4.4.4 TEM对比分析 | 第76页 |
| 4.5 本章小结 | 第76-78页 |
| 结论 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-84页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85-87页 |
| 作者简介 | 第87页 |
