| 中文摘要 | 第3-4页 |
| 英文摘要 | 第4页 |
| 1 绪论 | 第8-25页 |
| 1.1 铝电解电容器简介 | 第8-9页 |
| 1.2 电容器用铝箔的发展 | 第9-12页 |
| 1.3 电容器用铝箔的国内外现状 | 第12-13页 |
| 1.4 电容器阳极铝箔的特性 | 第13页 |
| 1.5 高纯铝的回复、形核与再结晶 | 第13-17页 |
| 1.6 立方织构的形成机理 | 第17-18页 |
| 1.7 化学成分对铝箔立方织构的影响 | 第18-20页 |
| 1.7.1 Fe元素的影响 | 第18页 |
| 1.7.2 Si元素的影响 | 第18-19页 |
| 1.7.3 Cu元素的影响 | 第19-20页 |
| 1.7.4 Mg元素的影响 | 第20页 |
| 1.8 加工工艺对立方织构的影响 | 第20-23页 |
| 1.8.1 均匀化处理 | 第21页 |
| 1.8.2 热轧工艺 | 第21页 |
| 1.8.3 中间退火及冷轧变形量 | 第21-22页 |
| 1.8.4 最终退火工艺 | 第22-23页 |
| 1.9 阳极铝箔电化学腐蚀工艺简介 | 第23-24页 |
| 1.10 本文研究的内容、意义及目的 | 第24-25页 |
| 2 实验材料及实验方法 | 第25-34页 |
| 2.1 实验材料 | 第25页 |
| 2.2 工艺路线 | 第25-26页 |
| 2.3 冷轧工艺流程 | 第26-27页 |
| 2.4 退火工艺 | 第27-28页 |
| 2.5 光学显微组织观察 | 第28-29页 |
| 2.5.1 偏光原理 | 第28页 |
| 2.5.2 偏光实验设备及材料 | 第28页 |
| 2.5.3 偏光实验制样 | 第28-29页 |
| 2.6 微区晶粒取向分析 | 第29-30页 |
| 2.6.1 EBSD原理 | 第29页 |
| 2.6.2 EBSD制样及实验 | 第29-30页 |
| 2.6.3 微观晶粒取向观察及分析 | 第30页 |
| 2.7 宏观织构检测及分析 | 第30-34页 |
| 2.7.1 取向分布函数（ODF） | 第31页 |
| 2.7.2 X射线衍射(XRD) | 第31-32页 |
| 2.7.3 XRD设备及实验 | 第32-34页 |
| 3 成品退火中不同加热方式对高纯铝箔微观组织及织构的影响 | 第34-50页 |
| 3.1 不同加热方式条件对高纯铝箔微观组织的影响 | 第34-40页 |
| 3.1.1 到温入炉对高纯铝箔光学显微组织的影响 | 第34-38页 |
| 3.1.2 随炉升温对高纯铝箔光学显微组织的影响 | 第38-40页 |
| 3.2 不同加热方式对高纯铝箔微区晶粒取向的影响 | 第40-44页 |
| 3.2.1 到温入炉对高纯铝箔微区晶粒取向的影响 | 第40-42页 |
| 3.2.2 随炉升温对高纯铝箔微区晶粒取向的影响 | 第42-44页 |
| 3.3 不同加热方式对高纯铝箔宏观织构的影响 | 第44-49页 |
| 3.3.1 到温入炉对高纯铝箔宏观织构的影响 | 第44-47页 |
| 3.3.2 随炉升温对高纯铝箔宏观织构的影响 | 第47-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 4 中间退火温度和成品退火加热速率对高纯铝箔微观组织及结构的影响 | 第50-59页 |
| 4.1 微区晶粒取向分析 | 第50-51页 |
| 4.2 晶粒织构成分分析 | 第51-52页 |
| 4.3 取向分布函数 (ODF) 分析 | 第52-54页 |
| 4.4 织构含量变化分析 | 第54-55页 |
| 4.5 再结晶分数的分析 | 第55-56页 |
| 4.6 再结晶晶粒尺寸的变化分析 | 第56-58页 |
| 4.7 本章小结 | 第58-59页 |
| 5 结论 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |