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过渡金属管状纳米材料的受限生长和含线缺陷的低维BN与MoS2纳米材料物性的数值模拟研究

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
目录第9-12页
第一章 绪论第12-32页
    第一节 纳米技术第12-13页
    第二节 低维纳米材料第13-24页
        2.1 碳纳米管第13-17页
        2.2 金属管状纳米材料第17-21页
        2.3 类石墨烯纳米材料第21-24页
    第三节 本章小结第24页
    参考文献第24-32页
第二章 理论计算方法第32-54页
    第一节 经典分子动力学模拟简介第32-34页
        1.1 分子动力学模拟简介第32-33页
        1.2 分子动力学基本原理第33-34页
    第二节 势函数第34-38页
        2.1 Tersoff 势第34-35页
        2.2 Glue 势第35-36页
        2.3 EAM 势第36-37页
        2.4 LJ 势第37-38页
    第三节 边界条件第38-39页
        3.1 周期性边界条件和最小影像约定第38页
        3.2 非周期性边界条件第38-39页
    第四节 常用的模拟系综第39-40页
        4.1 微正则系综—NVE第39页
        4.2 正则系综—NVT第39页
        4.3 等温等压系综—NPT第39-40页
    第五节 常用的控温和控压方法第40-43页
        5.1 速度标度热浴第40页
        5.2 Anderson 热浴第40页
        5.3 Berendsen 热浴第40-41页
        5.4 Nose-Hoover 热浴第41页
        5.5 Anderson 压力浴第41-42页
        5.6 Berendsen 压力浴第42-43页
    第六节 动力学积分方法第43-46页
        6.1 Verlet算法第43页
        6.2 Velocity-Verlet算法第43-44页
        6.3 Leap-frog算法第44页
        6.4 Gear算法第44页
        6.5 Beeman算法第44-45页
        6.6 Rugge-Kutta算法第45-46页
    第七节 经典分子动力学模拟软件包—LAMMPS第46-50页
        7.1 LAMMPS简介、功能和应用举例第46-49页
        7.2 修改和扩展LAMMPS源代码第49-50页
    参考文献第50-54页
第三章 碳管约束下的金属管状纳米材料的生长第54-93页
    第一节 研究背景第54-58页
        1.1 金纳米管研究现状第54-55页
        1.2 银、铜纳米管研究背景第55-56页
        1.3 合金纳米管生产的困难—“自净化效应”第56-58页
    第二节 模型和计算方法第58-60页
        2.1 模型第58-59页
        2.2 计算方法第59-60页
    第三节 结果和讨论第60-87页
        3.1 碳管约束下金纳米管的生长第60-67页
        3.2 碳管约束下银、铜纳米管的生长第67-75页
        3.3 碳管约束下二元金属合金纳米管的生长第75-87页
    第四节 本章小结第87页
    参考文献第87-93页
第四章 含有(4|8)线缺陷的硼氮纳米带的电子结构和磁性性质第93-109页
    第一节 研究背景第93-94页
    第二节 模型和计算方法第94-96页
    第三节 结果和讨论第96-105页
        3.1 具有两个B边的(4|4)-LD-(4|8)-ZBNNR第96-98页
        3.2 具有两个N边的(4|4)-LD-(4|8)-ZBNNR第98-99页
        3.3 (n,m)-LD-(4|8)-ABNNR(m≤n)第99-101页
        3.4 一边或者两边氢吸附的(4,4)-LD-(4|8)-ZBNNR第101-103页
        3.5 二维BN片中LD-(4|8)的稳定性第103-105页
    第四节 本章小结第105页
    参考文献第105-109页
第五章 含有硫线空位缺陷的单层二硫化钼和二硫化钼纳米带的电子结构和磁性性质第109-127页
    第一节 研究背景第109-110页
    第二节 模型和计算方法第110-112页
        2.1 模型第110-112页
        2.2 计算方法第112页
    第三节 结果和讨论第112-122页
        3.1 含有硫线空位缺陷的单层二硫化钼第112-116页
        3.2 含有硫线空位缺陷的二硫化钼纳米带第116-120页
        3.3 单层二硫化钼中硫线空位缺陷的稳定性第120-122页
    第四节 本章小结第122-123页
    参考文献第123-127页
博士期间发表和待发表论文列表第127-128页
致谢第128-131页

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