| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 镁及镁合金 | 第8-10页 |
| 1.1.1 镁合金分类 | 第8-9页 |
| 1.1.2 镁及其合金的特性及应用 | 第9-10页 |
| 1.2 镁合金的腐蚀 | 第10-12页 |
| 1.2.1 腐蚀原理 | 第10-11页 |
| 1.2.2 腐蚀类型及其影响因素 | 第11-12页 |
| 1.3 镁合金表面防护及其研究现状 | 第12-14页 |
| 1.4 TiCN 薄膜和 SiTiCN 薄膜 | 第14-15页 |
| 1.5 溅射镀膜原理 | 第15-18页 |
| 1.6 薄膜的生长 | 第18-19页 |
| 1.7 课题研究目的及意义 | 第19-20页 |
| 2 实验 | 第20-28页 |
| 2.1 实验仪器及材料 | 第20-21页 |
| 2.1.1 实验仪器 | 第20-21页 |
| 2.1.2 实验材料 | 第21页 |
| 2.2 薄膜的制备 | 第21-24页 |
| 2.2.1 镁合金基体的表面预处理 | 第21页 |
| 2.2.2 TiCN 薄膜的制备 | 第21-23页 |
| 2.2.3 SiTiCN 薄膜的制备 | 第23-24页 |
| 2.3 薄膜的检测 | 第24-28页 |
| 2.3.1 电化学表征 | 第24-26页 |
| 2.3.2 表面形貌检测 | 第26页 |
| 2.3.3 表面成分检测 | 第26-27页 |
| 2.3.4 微观结构检测 | 第27页 |
| 2.3.5 薄膜厚度检测 | 第27-28页 |
| 3 TiCN 薄膜的制备及其性能研究 | 第28-41页 |
| 3.1 制备工艺参数对 TiCN 薄膜耐蚀性能的影响 | 第28-34页 |
| 3.1.1 TiCN 靶功率对 TiCN 薄膜耐蚀性的影响 | 第28-29页 |
| 3.1.2 N_2流量对 TiCN 薄膜耐蚀性的影响 | 第29-31页 |
| 3.1.3 总气压对 TiCN 薄膜耐蚀性的影响 | 第31-32页 |
| 3.1.4 溅射时间对 TiCN 薄膜耐蚀性的影响 | 第32-34页 |
| 3.2 TiCN 薄膜的表面形貌 | 第34-35页 |
| 3.3 TiCN 薄膜的 X 射线衍射分析 | 第35-36页 |
| 3.4 TiCN 薄膜的成分分析 | 第36-38页 |
| 3.5 TiCN 薄膜的电化学阻抗谱结果分析 | 第38-39页 |
| 3.6 本章小结 | 第39-41页 |
| 4 SiTiCN 薄膜的制备及其性能研究 | 第41-51页 |
| 4.1 制备工艺参数对 SiTiCN 薄膜耐蚀性能的影响 | 第41-44页 |
| 4.1.1 Si 靶功率对 SiTiCN 薄膜耐蚀性的影响 | 第41-42页 |
| 4.1.2 溅射时间对 SiTiCN 薄膜耐蚀性的影响 | 第42-44页 |
| 4.2 SiTiCN 薄膜的表面形貌 | 第44-46页 |
| 4.3 SiTiCN 薄膜的 X 射线衍射分析 | 第46-47页 |
| 4.4 SiTiCN 薄膜的成分分析 | 第47-48页 |
| 4.5 SiTiCN 薄膜的电化学阻抗谱结果分析 | 第48-49页 |
| 4.6 本章小结 | 第49-51页 |
| 5 (Si、SiN)/SiTiCN 复合膜耐蚀性能研究 | 第51-55页 |
| 5.1 Si/SiTiCN 复合薄膜的制备 | 第51-52页 |
| 5.2 SiN/SiTiCN 复合薄膜的制备 | 第52-53页 |
| 5.3 (Si、SiN)/SiTiCN 复合薄膜耐蚀性能分析 | 第53-55页 |
| 6 结论与展望 | 第55-57页 |
| 6.1 结论 | 第55-56页 |
| 6.2 创新点 | 第56页 |
| 6.3 展望 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 附录 | 第64页 |
