| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 格氏试剂简介 | 第9-12页 |
| 1.2.1 格氏试剂的历史 | 第9-10页 |
| 1.2.2 格氏试剂的性质 | 第10-11页 |
| 1.2.3 格氏试剂的应用 | 第11-12页 |
| 1.3 格氏试剂的制备 | 第12-13页 |
| 1.3.1 水和氧气对格氏试剂制备的影响 | 第12页 |
| 1.3.2 溶剂对格氏试剂制备的影响 | 第12-13页 |
| 1.3.3 卤代烃对格氏试剂制备的影响 | 第13页 |
| 1.4 格氏试剂的形成机理 | 第13-19页 |
| 1.4.1 早期研究 | 第13页 |
| 1.4.2 格氏试剂形成的选择性 | 第13-16页 |
| 1.4.3 格氏试剂形成的动力学 | 第16-17页 |
| 1.4.4 理论研究 | 第17-19页 |
| 1.5 本课题研究目标及研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 金属镁表面的模型的建立 | 第21-29页 |
| 2.1 引言 | 第21页 |
| 2.2 计算方法 | 第21-22页 |
| 2.2.1 k点与k空间 | 第21-22页 |
| 2.2.2 赝势与截断能 | 第22页 |
| 2.3 金属镁体相晶格参数的确定 | 第22-23页 |
| 2.3.1 金属镁体相计算的参数 | 第22-23页 |
| 2.3.2 金属镁体相晶格参数的确定 | 第23页 |
| 2.4 金属镁表面模型的建立 | 第23-24页 |
| 2.5 计算条件的选择 | 第24-28页 |
| 2.5.1 k点的选择 | 第24页 |
| 2.5.2 模糊化方法的选择 | 第24-25页 |
| 2.5.3 截断能的选择 | 第25页 |
| 2.5.4 偶极矩校正及真空层的影响 | 第25-26页 |
| 2.5.5 自由能的影响 | 第26-27页 |
| 2.5.6 计算条件的选择 | 第27-28页 |
| 2.6 本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 卤代烃在金属镁表面的解离 | 第29-38页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 卤代烃在金属镁表面的解离 | 第29-34页 |
| 3.2.1 卤代烃在金属镁表面的不同解离路径 | 第29-30页 |
| 3.2.2 双阴离子解离路径 | 第30-31页 |
| 3.2.3 表面解离产物的分析 | 第31-34页 |
| 3.3 卤代烃解离路径对格氏试剂选择性的影响 | 第34-37页 |
| 3.3.1 卤代烃在金属镁表面解离的势能面 | 第35-36页 |
| 3.3.2 芳基及烯基格氏试剂的构型保留 | 第36-37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 格氏试剂的脱附及形成机理 | 第38-50页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 格氏试剂脱附计算的模型选择 | 第38-39页 |
| 4.3 金属镁不同形式脱附的比较 | 第39-41页 |
| 4.4 溶剂对格氏试剂脱附的影响 | 第41-42页 |
| 4.5 格氏试剂的形成路径 | 第42-43页 |
| 4.6 格氏试剂形成机理的提出 | 第43-44页 |
| 4.7 阳离子脱附机理的实验验证 | 第44-45页 |
| 4.7.1 电极的制备 | 第44页 |
| 4.7.2 阳离子检测实验 | 第44-45页 |
| 4.8 格氏试剂脱附机理对烷基格氏试剂选择性的影响 | 第45-47页 |
| 4.9 格氏试剂形成的动力学 | 第47-49页 |
| 4.9.1 格氏试剂形成的诱导期 | 第47页 |
| 4.9.2 格氏试剂诱导期的消除 | 第47-48页 |
| 4.9.3 格氏试剂形成的动力学模拟 | 第48-49页 |
| 4.10 本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 全文总结和展望 | 第50-52页 |
| 5.1 全文总结 | 第50页 |
| 5.2 主要创新点 | 第50页 |
| 5.3 不足及展望 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 攻读硕士学位期间论文成果 | 第58页 |