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具有AIEE效应的官能化硅烷的设计、合成与性能研究

摘要第12-14页
ABSTRACT第14-15页
第一章 绪论第16-48页
    1.1 概述第16页
    1.2 聚集诱导发光(AIE)与聚集诱导发光增强(AIEE)的研究进展第16-25页
        1.2.1 AIE/AIEE现象第16-17页
        1.2.2 AIE/AIEE体系与机理的研究进展第17-25页
            1.2.2.1 碳氢化合物第18-19页
            1.2.2.2 杂环化合物第19-21页
            1.2.2.3 氰基取代化合物第21-22页
            1.2.2.4 含氢键化合物第22页
            1.2.2.5 聚合物第22-23页
            1.2.2.6 不含发色团的化合物第23-24页
            1.2.2.7 有机金属化合物第24-25页
    1.3 基于官能化硅烷的光电材料的应用研究第25-32页
        1.3.1 基于官能化硅烷的光电材料在OLEDs领域的应用第25-28页
        1.3.2 基于官能化硅烷的光电材料在其他领域的应用第28-32页
            1.3.2.1 离子检测第28-29页
            1.3.2.2 ATP检测第29-30页
            1.3.2.3 爆炸物检测第30-31页
            1.3.2.4 细胞标记第31-32页
    1.4 课题的提出及拟开展的工作第32-35页
        1.4.1 课题的提出第32-34页
        1.4.2 本文拟开展的工作和意义第34-35页
    参考文献第35-48页
第二章 以苯乙炔基为桥腈基官能化硅烷的合成、AIEE性能及对TNT响应的研究第48-74页
    2.1 前言第48-49页
    2.2 实验部分第49-53页
        2.2.1 试剂第49-50页
        2.2.2 试剂的纯化及处理第50页
        2.2.3 测试方法第50-52页
            2.2.3.1 核磁共振光谱(NMR)第50页
            2.2.3.2 红外光谱(FTIR)第50-51页
            2.2.3.3 液质联用(LC/MS)第51页
            2.2.3.4 元素分析第51页
            2.2.3.5 热重分析(TGA)第51页
            2.2.3.6 差示扫描量热分析(DSC)第51页
            2.2.3.7 紫外光谱第51页
            2.2.3.8 荧光分析第51-52页
            2.2.3.9 扫描电镜(SEM)与透射电镜(TEM)分析第52页
            2.2.3.10 单晶数据分析第52页
        2.2.4 4-((三甲硅基)乙炔基)苯腈(1)的合成第52页
        2.2.5 4-乙炔基苯腈(2)的合成第52-53页
        2.2.6 二(4-腈基苯乙炔基)二甲基硅烷(CN-1)的合成第53页
        2.2.7 二(4-溴苯基)二苯基硅烷(CN-2)的合成第53页
    2.3 结果与讨论第53-66页
        2.3.1 合成第53-54页
        2.3.2 热稳定性与基本光学性质第54-57页
        2.3.3 AIEE性能研究第57-65页
            2.3.3.1 荧光性能研究第57-58页
            2.3.3.2 紫外吸收与电镜形貌表征第58-59页
            2.3.3.3 分子轨道计算第59-60页
            2.3.3.4 AIEE机理探究第60-65页
        2.3.4 TNT的荧光响应第65-66页
    2.4 本章小结第66-67页
    参考文献第67-74页
第三章 以二联苯基为桥腈基官能化硅烷的合成及AIEE性能研究第74-98页
    3.1 前言第74-75页
    3.2 实验部分第75-80页
        3.2.1 试剂第75-76页
        3.2.2 试剂的纯化及处理第76页
        3.2.3 测试方法第76-77页
            3.2.3.1 核磁共振光谱(NMR)第76页
            3.2.3.2 红外光谱(FTIR)第76页
            3.2.3.3 高分辨质谱(HRMS)第76页
            3.2.3.4 元素分析第76-77页
            3.2.3.5 热重分析(TGA)第77页
            3.2.3.6 差示扫描量热分析(DSC)第77页
            3.2.3.7 紫外光谱第77页
            3.2.3.8 荧光分析第77页
        3.2.4 (4-溴苯基)硅烷的合成第77-79页
            3.2.4.1 二(4-溴苯基)二甲基硅烷(1)的合成第77-78页
            3.2.4.2 二(4-溴苯基)二苯基硅烷(2)的合成第78页
            3.2.4.3 三(4-溴苯基)甲基硅烷(3)的合成第78页
            3.2.4.4 三(4-溴苯基)苯基硅烷(4)的合成第78页
            3.2.4.5 四(4-溴苯基)硅烷(5)的合成第78-79页
        3.2.5 (4-腈基二联苯基)硅烷的合成第79-80页
            3.2.5.1 二(4-腈基二联苯基)二甲基硅烷(2me)的合成第79页
            3.2.5.2 二(4-腈基二联苯基)二苯基基硅烷(2ph)的合成第79页
            3.2.5.3 三(4-腈基二联苯基)甲基硅烷(3me)的合成第79-80页
            3.2.5.4 三(4-腈基二联苯基)苯基硅烷(3ph)的合成第80页
            3.2.5.5 四(4-腈基二联苯基)硅烷(4ph)的合成第80页
    3.3 结果与讨论第80-93页
        3.3.1 合成第80-81页
        3.3.2 热稳定性第81-82页
        3.3.3 光学性质第82-86页
        3.3.4 AIEE性质研究第86-88页
        3.3.5 二苯胺的荧光与紫外响应第88-93页
    3.4 本章小结第93页
    参考文献第93-98页
第四章 结论第98-102页
致谢第102-104页
攻读硕士学位期间发表的论文第104-105页
附表第105页

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