| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 文献综述 | 第10-24页 |
| 1.1 透明导电薄膜研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 不同透明导电薄膜材料 | 第11-13页 |
| 1.2.1 氧化铟锡膜 | 第11页 |
| 1.2.2 氧化锌基膜 | 第11页 |
| 1.2.3 碳纳米管膜 | 第11-12页 |
| 1.2.4 石墨烯膜 | 第12页 |
| 1.2.5 导电聚合物膜 | 第12页 |
| 1.2.6 银纳米线膜 | 第12-13页 |
| 1.3 铜纳米线综述 | 第13-20页 |
| 1.3.1 铜纳米线的合成 | 第13-16页 |
| 1.3.1.1 模板合成法 | 第14页 |
| 1.3.1.2 水热还原法 | 第14-16页 |
| 1.2.1.3 气相沉积法 | 第16页 |
| 1.3.2 铜纳米线透明导电薄膜制备 | 第16-18页 |
| 1.3.2.1 迈耶棒辊涂法 | 第16-17页 |
| 1.2.2.2 旋涂法 | 第17-18页 |
| 1.2.2.3 真空抽虑法 | 第18页 |
| 1.3.3 铜纳米线导电薄膜稳定性研究 | 第18-20页 |
| 1.4 铜纳米线透明导电薄膜的运用 | 第20-22页 |
| 1.4.1 柔性透明电极 | 第20页 |
| 1.4.2 太阳能薄膜电池 | 第20-21页 |
| 1.4.3 有机发光二极管 | 第21页 |
| 1.4.4 催化剂 | 第21-22页 |
| 1.4.5 其他运用 | 第22页 |
| 1.5 本论文主要研究目的、意义及内容 | 第22-24页 |
| 1.5.1 选题目的和意义 | 第22页 |
| 1.5.2 论文研究内容 | 第22-24页 |
| 2 铜纳米线的合成及表征 | 第24-42页 |
| 2.1 引言 | 第24页 |
| 2.2 实验部分 | 第24-26页 |
| 2.2.1 试剂及仪器 | 第24-26页 |
| 2.2.2 铜纳米线的合成 | 第26页 |
| 2.3 铜纳米线表征 | 第26-29页 |
| 2.3.1 X-射线衍射仪 | 第26-27页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜 | 第27-28页 |
| 2.3.3 X射线光电子能谱 | 第28页 |
| 2.3.4 紫外-可见分光光度计 | 第28-29页 |
| 2.3.5 透射电子显微镜 | 第29页 |
| 2.4 实验结果及讨论 | 第29-40页 |
| 2.4.1 标准条件下产物分析 | 第29-32页 |
| 2.4.2 CuCl_2加入量对产物形貌影响 | 第32-33页 |
| 2.4.3 反应时间的影响 | 第33-34页 |
| 2.4.4 保护剂对形貌的影响 | 第34-35页 |
| 2.4.5 分散剂产物影响 | 第35-36页 |
| 2.4.6 生长机理探讨 | 第36-39页 |
| 2.4.7 不同铜盐产物 | 第39-40页 |
| 2.5 小结 | 第40-42页 |
| 3 透明导电薄膜的制备及性能研究 | 第42-54页 |
| 3.1 引言 | 第42页 |
| 3.2 实验部分 | 第42-44页 |
| 3.2.1 化学试剂及主要设备 | 第42-43页 |
| 3.2.2 衬底的清洗 | 第43页 |
| 3.2.3 抽滤法制备薄膜 | 第43-44页 |
| 3.2.4 薄膜后处理 | 第44页 |
| 3.3 实验结果 | 第44-52页 |
| 3.3.1 退火处理对薄膜性能影响 | 第44-46页 |
| 3.3.2 冰醋酸对薄膜光电性能影响 | 第46-48页 |
| 3.3.3 不同密度对薄膜光电性能影响 | 第48-49页 |
| 3.3.4 柔性性能测试 | 第49-52页 |
| 3.4 小结 | 第52-54页 |
| 4 薄膜稳定性研究 | 第54-62页 |
| 4.1 引言 | 第54页 |
| 4.2 实验部分 | 第54-55页 |
| 4.3 实验结果 | 第55-60页 |
| 4.3.1 AZO-XRD分析 | 第55-57页 |
| 4.3.2 AZO/Cu NWs/PET稳定性研究 | 第57-60页 |
| 4.4 小结 | 第60-62页 |
| 5 结论与展望 | 第62-64页 |
| 5.1 结论 | 第62-63页 |
| 5.2 展望 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文及取得的研究成果 | 第72页 |