| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-18页 |
| ·金属纳米结构的应用 | 第8-12页 |
| ·金属纳米结构的制备 | 第12-15页 |
| ·金属纳米结构的输运特性及热效应 | 第15-16页 |
| ·本文主要内容 | 第16-18页 |
| 第二章 高质量金属膜的制备 | 第18-33页 |
| ·引言 | 第18页 |
| ·金属镀膜方法的分类 | 第18-21页 |
| ·真空蒸发镀膜 | 第19页 |
| ·溅射镀膜 | 第19页 |
| ·薄膜质量的影响因素 | 第19-21页 |
| ·实验仪器设备简介 | 第21-22页 |
| ·高真空电流加热蒸发镀膜设备 | 第21页 |
| ·原子力显微镜简介 | 第21-22页 |
| ·高质量金、银薄膜的制备 | 第22-32页 |
| ·过渡层的选择 | 第22-23页 |
| ·银膜制备 | 第23-29页 |
| ·金膜的制备 | 第29-32页 |
| ·小结 | 第32-33页 |
| 第三章 纳米点接触结构的制备 | 第33-50页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·电子束曝光系统(electron beam lithography,EBL) | 第33-36页 |
| ·实验仪器介绍 | 第36-38页 |
| ·Raith150电子束曝光系统 | 第36页 |
| ·FJLX500磁控溅射系统 | 第36-37页 |
| ·反应离子刻蚀系统 | 第37-38页 |
| ·坡莫合金薄膜质量分析 | 第38-42页 |
| ·坡莫合金制备及形貌分析 | 第38-41页 |
| ·成份分析 | 第41-42页 |
| ·坡莫合金纳米点接触的制备 | 第42-49页 |
| ·曝光剂量对曝光图形的影响 | 第42-43页 |
| ·利用Lift-off工艺制备纳米点接触结构 | 第43-46页 |
| ·采用刻蚀方法制备点接触结构 | 第46-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 第四章 金属纳米结构输运特性研究 | 第50-60页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·检测方法及测试系统简介 | 第50-53页 |
| ·测试方法介绍 | 第50-52页 |
| ·金斯利(KEITHLEY)4200-SCS电学测试系统简介 | 第52-53页 |
| ·金属纳米结构的输运特性研究 | 第53-59页 |
| ·实验测试电路连接方法 | 第53-54页 |
| ·输运特性及机制研究 | 第54-59页 |
| ·小结 | 第59-60页 |
| 第五章 总结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |