1 Preface | 第8-29页 |
1.1 Introduction of lithography | 第8-12页 |
1.2 Introduction of Langmuir-Blodgett technique | 第12-23页 |
1.2.1 Introduction of several kinds of films technique | 第13-16页 |
1.2.2 Langmuir-Blodgett technique | 第16-20页 |
1.2.2.1 Materials of preparing LB films | 第16页 |
1.2.2.2 The preparation of Langmuir monolayer at air/subphase interface | 第16-18页 |
1.2.2.3 Instrument of preparation LB films | 第18-20页 |
1.2.3 Monolayer and multilayers deposition | 第20-23页 |
1.3 Characterization techniques of LB films | 第23-28页 |
1.3.1 Infrared spectroscopy | 第24页 |
1.3.2 X-ray scattering | 第24页 |
1.3.3 Electron diffraction | 第24-25页 |
1.3.4 Ellipsometry and optical reflectometry | 第25页 |
1.3.5 Surface analytical techniques | 第25页 |
1.3.6 Electron microscopy | 第25-26页 |
1.3.7 Optical microscopy | 第26页 |
1.3.8 Scanning probe microscopy | 第26-28页 |
1.4 Ideas and plans | 第28-29页 |
2 Preparation and Characterization of Monomer N-alkylacrylamide and Their Polymerization | 第29-37页 |
2.1 Materials | 第29页 |
2.2 Instruments | 第29-30页 |
2.3 Process of experiments | 第30-37页 |
2.3.1 Synthesis of N-dodecylmethacrylamide(DDMA) | 第30-31页 |
2.3.2 Synthesis of N-dodecylacrylamide(DDA) | 第31-32页 |
2.3.3 Synthesis of N-hexadecylacrylamide(HDA) | 第32页 |
2.3.4 Synthesis of N-hexadecylmethylacrylamide(HDMA) | 第32-33页 |
2.3.5 Synthesis of 1,4-dioxaspiro[4,4]nonane-2-methyl methacrylate(DNMMA) | 第33-34页 |
2.3.6 Polymerization of N-alkylacrylamide with 1,4-dioxaspiro[4,4]nonane-2-methyl methacrylate(DNMMA) | 第34-35页 |
2.3.7 p-A isotherms and LB films | 第35-36页 |
2.3.8 Measurements | 第36页 |
2.3.9 Photolithography | 第36-37页 |
3 Studies on Langmuir Films at Air-water Interface | 第37-41页 |
3.1 Influence of different conditions on Langmuir films | 第37-39页 |
3.2 p-A isotherms of different monomer and polymers | 第39-41页 |
4. Studies on Copolymer LB Films | 第41-52页 |
4.1 p-A isotherms of copolymers | 第41-42页 |
4.2 Surface elastic behavior of Langmuir films | 第42-45页 |
4.3 UV measurements of LB films | 第45-46页 |
4.4 Studies by atomic force microscope | 第46-52页 |
4.4.1 Topography of Spin-coating Film and LB Film | 第46-47页 |
4.4.2 Morphology of p(DDMA-DNMMA)monolayer | 第47-48页 |
4.4.3 Different ways of deposition | 第48-49页 |
4.4.4 Different preparation of monolayers | 第49-52页 |
5 Preliminary Studies on Photolithography | 第52-56页 |
5.1 Photodecomposition of copolymer LB films | 第52-53页 |
5.2 Photopatterning | 第53-56页 |
6 Conclusions | 第56-57页 |
References | 第57-61页 |
PaPers | 第61-62页 |
Acknowledgements | 第62-63页 |
Addenda | 第63-68页 |