垂直磁记录介质薄膜的制备及其晶体结构和磁性研究
摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-9页 |
第1章 绪论 | 第9-25页 |
·磁记录概述 | 第11-13页 |
·磁记录原理 | 第11-12页 |
·磁记录材料 | 第12-13页 |
·磁记录介质主要技术参数 | 第13-19页 |
·矫顽力 | 第13-16页 |
·剩磁和矩形度 | 第16-18页 |
·磁化反转体积与噪声 | 第18页 |
·磁晶各向异性能与热稳定性 | 第18-19页 |
·磁记录薄膜介质材料的结构 | 第19-22页 |
·衬层 | 第20-21页 |
·磁性层 | 第21页 |
·硬保护层和润滑层 | 第21-22页 |
·磁性层中掺杂元素的作用 | 第22-23页 |
·高密度磁记录对记录介质材料的要求 | 第23-24页 |
·本文的研究内容 | 第24-25页 |
第2章 薄膜的制备及其性能表征 | 第25-34页 |
·制备样品的方法 | 第25-29页 |
·磁控溅射的原理 | 第25-27页 |
·选择与清洗基片 | 第27页 |
·溅射镀膜过程 | 第27-28页 |
·制备样品方法及溅射工艺条件 | 第28页 |
·样品热处理 | 第28-29页 |
·样品的表征及性能 | 第29-34页 |
·成份分析 | 第29页 |
·厚度测量 | 第29-30页 |
·晶体结构测量 | 第30-31页 |
·磁特性测量 | 第31-34页 |
第3章 薄膜的晶体结构和磁特性 | 第34-45页 |
·衬层成分的影响 | 第35-39页 |
·样品制备 | 第36页 |
·测量与分析 | 第36-38页 |
·小结 | 第38-39页 |
·基片温度的影响 | 第39-43页 |
·样品制备 | 第39页 |
·测量与分析 | 第39-42页 |
·小结 | 第42-43页 |
·衬层厚度的影响 | 第43-45页 |
·样品制备 | 第43页 |
·测量与分析 | 第43-44页 |
·小结 | 第44-45页 |
第4章 结论及展望 | 第45-47页 |
参考文献 | 第47-49页 |
攻读硕士期间发表的论文及其他成果 | 第49-50页 |
致谢 | 第50-51页 |
作者简介 | 第51-52页 |
详细摘要 | 第52-78页 |