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垂直磁记录介质薄膜的制备及其晶体结构和磁性研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-9页
第1章 绪论第9-25页
   ·磁记录概述第11-13页
     ·磁记录原理第11-12页
     ·磁记录材料第12-13页
   ·磁记录介质主要技术参数第13-19页
     ·矫顽力第13-16页
     ·剩磁和矩形度第16-18页
     ·磁化反转体积与噪声第18页
     ·磁晶各向异性能与热稳定性第18-19页
   ·磁记录薄膜介质材料的结构第19-22页
     ·衬层第20-21页
     ·磁性层第21页
     ·硬保护层和润滑层第21-22页
   ·磁性层中掺杂元素的作用第22-23页
   ·高密度磁记录对记录介质材料的要求第23-24页
   ·本文的研究内容第24-25页
第2章 薄膜的制备及其性能表征第25-34页
   ·制备样品的方法第25-29页
     ·磁控溅射的原理第25-27页
     ·选择与清洗基片第27页
     ·溅射镀膜过程第27-28页
     ·制备样品方法及溅射工艺条件第28页
     ·样品热处理第28-29页
   ·样品的表征及性能第29-34页
     ·成份分析第29页
     ·厚度测量第29-30页
     ·晶体结构测量第30-31页
     ·磁特性测量第31-34页
第3章 薄膜的晶体结构和磁特性第34-45页
   ·衬层成分的影响第35-39页
     ·样品制备第36页
     ·测量与分析第36-38页
     ·小结第38-39页
   ·基片温度的影响第39-43页
     ·样品制备第39页
     ·测量与分析第39-42页
     ·小结第42-43页
   ·衬层厚度的影响第43-45页
     ·样品制备第43页
     ·测量与分析第43-44页
     ·小结第44-45页
第4章 结论及展望第45-47页
参考文献第47-49页
攻读硕士期间发表的论文及其他成果第49-50页
致谢第50-51页
作者简介第51-52页
详细摘要第52-78页

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