中文摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
目录 | 第7-10页 |
第一章 绪论 | 第10-41页 |
1.1 晶体生长理论简介 | 第11-14页 |
1.2 常用制备手段 | 第14-21页 |
1.3 脉冲激光沉积技术的发展 | 第21-31页 |
参考文献 | 第31-41页 |
第二章 实验部分 | 第41-67页 |
2.1 脉冲激光沉积系统 | 第41-48页 |
2.2 X射线衍射仪 | 第48-50页 |
2.3 扫描电子显微镜 | 第50-52页 |
2.4 透射电子显微镜 | 第52-58页 |
2.4.1 透射电子显微镜成像 | 第53-54页 |
2.4.2 电子衍射 | 第54-58页 |
2.5 激光拉曼光谱 | 第58-61页 |
2.6 光致发光谱 | 第61-63页 |
2.7 X射线光电子能谱 | 第63-64页 |
2.8 场致电子发射 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-67页 |
第三章 脉冲激光沉积制备ZnO纳米材料和及其性质研究 | 第67-83页 |
3.1 引言 | 第67-69页 |
3.1.1 纳米ZnO材料的基本性质 | 第68-69页 |
3.2 实验过程 | 第69-70页 |
3.3 结果与讨论 | 第70-76页 |
3.4 结果与讨论 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-83页 |
第四章 脉冲激光沉积一维氧化钨纳米材料及其性质 | 第83-126页 |
4.1 引言 | 第83-84页 |
4.1.1 氧化钨晶体的基本性质 | 第83-84页 |
4.2 实验部分 | 第84-85页 |
4.3 结果与讨论 | 第85-115页 |
4.3.1 脉冲激光沉积在W基底上沉积WO3纳米材料 | 第85-92页 |
4.3.2 脉冲激光沉积在Ta基底上沉积WO3纳米材料及其性质研究 | 第92-100页 |
4.3.3 脉冲激光沉积在Cu基底上沉积WOx纳米材料及其性质研究 | 第100-115页 |
4.4 结论 | 第115-116页 |
参考文献 | 第116-126页 |
第五章 水热法制备钒酸镉(Cd2V207)、碳酸镉(CdC03)及其发光性质研究 | 第126-138页 |
5.1 水热法制备钒酸镉(Cd2V207)晶体及其发光性质 | 第126-131页 |
5.1.1 引言 | 第126页 |
5.1.2 Cd2V207的晶格结构 | 第126页 |
5.1.3 实验 | 第126-127页 |
5.1.4 结果和讨论 | 第127-131页 |
5.2 水热法制备碳酸镉(CdeO3)及其发光性质 | 第131-133页 |
5.2.1 结果和讨论 | 第131-133页 |
5.3 结论 | 第133-135页 |
参考文献 | 第135-138页 |
第六章 总结与展望 | 第138-140页 |
6.1 结论 | 第138-139页 |
6.2 展望 | 第139-140页 |
附录--------样品编号 | 第140-144页 |
在学期间的研究成果 | 第144-146页 |
作者简历 | 第146-147页 |
致谢 | 第147页 |