| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-32页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 空间原子氧（AO）环境简介 | 第11-16页 |
| 1.2.1 低地球轨道环境（LEO）简介 | 第11页 |
| 1.2.2 原子氧的产生 | 第11-13页 |
| 1.2.3 原子氧的作用机理 | 第13-16页 |
| 1.3 常见抗原子氧材料及研究进展 | 第16-24页 |
| 1.3.1 抗原子氧材料的简介 | 第16-17页 |
| 1.3.2 防护涂层 | 第17-20页 |
| 1.3.3 结构改性聚合物 | 第20-24页 |
| 1.4 LEO中材料抗原子氧性能的评价方法 | 第24-31页 |
| 1.4.1 空间暴露实验 | 第25-27页 |
| 1.4.2 地面模拟试验 | 第27-28页 |
| 1.4.3 抗原子氧材料的分析方法 | 第28-31页 |
| 1.5 本论文的设计思想以及研究内容 | 第31-32页 |
| 第二章 材料及试验方法 | 第32-36页 |
| 2.1 试验材料 | 第32-33页 |
| 2.2 试验材料在本论文中命名 | 第33-34页 |
| 2.3 原子氧地面模拟设备以及试验参数 | 第34-35页 |
| 2.4 试验结果分析方法 | 第35-36页 |
| 第三章 Kapton及防护材料的质量损失和侵蚀率研究 | 第36-50页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 Kapton的质量损失和侵蚀率 | 第36-38页 |
| 3.3 FEP Teflon薄膜的质量损失和侵蚀率 | 第38-39页 |
| 3.4 P-PPO薄膜的质量损失和侵蚀率 | 第39-40页 |
| 3.5 20%POSS-PI薄膜的质量损失和侵蚀率 | 第40-42页 |
| 3.6 30%PSX-PI薄膜的质量损失和侵蚀率 | 第42-43页 |
| 3.7 Silicon coating/PI薄膜的质量损失和侵蚀率 | 第43-45页 |
| 3.8 Al_2O_3/PI薄膜的质量损失和侵蚀率 | 第45-46页 |
| 3.9 PSX-PI薄膜的质量损失和侵蚀率 | 第46-48页 |
| 3.10 同一通量下，不同材料的质量损失比较分析 | 第48-49页 |
| 3.11 本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 Kapton及防护材料的表面形貌和成分变化研究 | 第50-67页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 Kapton薄膜的表面形貌和成分变化 | 第50-53页 |
| 4.3 FEP Teflon薄膜的表面形貌和成分变化 | 第53-54页 |
| 4.4 P-PPO薄膜的表面形貌和成分变化 | 第54-56页 |
| 4.5 20%POSS-PI薄膜的表面形貌和成分变化 | 第56-58页 |
| 4.6 30%PSX-PI薄膜的表面形貌和成分变化 | 第58-59页 |
| 4.7 Silicon coating/PI薄膜的表面形貌和成分变化 | 第59-61页 |
| 4.8 Al_2O_3/PI薄膜的表面形貌和成分变化 | 第61-63页 |
| 4.9 PSX-PI薄膜的表面形貌和成分变化 | 第63-64页 |
| 4.10 同一通量下，不同材料的表面形貌对比研究 | 第64-66页 |
| 4.11 本章小节 | 第66-67页 |
| 第五章 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 作者简介 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
